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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
產(chǎn)品簡介：
鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室,、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng),、蒸發(fā)源,、樣品加 熱控溫、電控系統(tǒng),、配氣系統(tǒng)等部分組成,。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導體薄膜,、氧化物薄膜,、有機薄 膜等，可用于科研單位進行新材料,、新工藝薄膜研究工作,， 也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作，廣泛應用 于有機,、無機,、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED 等研究領域,。
| 產(chǎn)品型號 | 鈣鈦礦鍍膜機 |
| 主要特點 | 1,、樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方,，向上蒸發(fā)鍍膜,，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。 2、設有烘烤加熱功能,，可在鍍膜過程中加熱樣品,， 烘烤加熱溫度為 180℃。 3,、設有斷水,、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。 |
| 技術參數(shù) | 1,、鍍膜室：不銹鋼材料,，采用方形前后開門結構，內(nèi)帶有防污板,， 腔室尺寸約為 600mm×450mm×450mm 2,、真空排氣系統(tǒng)：采用分子泵+機械泵系統(tǒng) 3、真空度：鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa 4,、系統(tǒng)漏率：≤ 1×10-7Pa 5,、蒸發(fā)源：安裝在真空室的下底上； 有機蒸發(fā)源 4 個,、 容積 5ml ,，2 臺蒸發(fā)電源，可測溫,、控溫,， 加熱溫度 400℃， 功率 0.5KW,；無機蒸發(fā)源 4 套,、 容積 5ml ，2 臺蒸發(fā)電源,， 加熱電流 300A ,，功率 3.2KW；蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開啟 6,、樣品架：安裝在真空室的上蓋上,， 可放置 Ø120mm 的樣品、載玻片,， 旋轉(zhuǎn)速度 0-30rpm 7,、加熱溫度： RT-180℃，測溫,、控溫 8,、膜厚控制儀：石英晶振膜厚控制儀， 膜厚測量范圍 0-999999Å |