目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>高真空鍍膜機>> 鈣鈦礦鍍膜機
產(chǎn)品簡介： 鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室,、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng),、蒸發(fā)源,、樣品加 熱控溫、電控系統(tǒng),、配氣系統(tǒng)等部分組成,。 適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜,、氧化物薄膜,、有機薄 膜等,， 可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作,， 也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作,， 廣泛應(yīng)用 于有機、無機,、鈣鈦礦薄膜太陽能電池,、 OLED 等研究領(lǐng)域。鈣鈦礦鍍膜機工作過程中樣品位于真空室上 方,，蒸發(fā)源位于真空室下方,，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,，防止蒸發(fā)源被污染,。
產(chǎn)品名稱 | 鈣鈦礦鍍膜機 |
主要特點 | 1、樣品位于真空室上方,，蒸發(fā)源位于真空室下方,，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,。 |
2,、設(shè)有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品,， 烘烤加熱溫度可達 180℃,。 3、設(shè)有斷水,、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置,。 | |
技術(shù)參數(shù) | 1、鍍膜室：不銹鋼材料,，采用方形前后開門結(jié)構(gòu),，內(nèi)帶有防污板， 腔室尺寸約為 600mm× 450mm×450mm 2,、真空排氣系統(tǒng)：采用分子泵+機械泵系統(tǒng) 3,、真空度：鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa 4、系統(tǒng)漏率：≤ 1×10-7Pa 5,、蒸發(fā)源：安裝在真空室的下底上,； 有機蒸發(fā)源 4 個、 容積 5ml ,，2 臺蒸發(fā)電源,，可測溫、 |
控溫,， 加熱溫度 400℃,， 功率 0.5KW,；無機蒸發(fā)源 4 套、 容積 5ml ,，2 臺蒸發(fā)電 源,， 加熱電流 300A ，功率 3.2KW,；蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開 | |
啟 6,、樣品架：安裝在真空室的上蓋上， 可放置 ?120mm 的樣品,、載玻片,， 旋轉(zhuǎn)速度 0-30rpm 7、加熱溫度： RT-180℃,，測溫,、控溫 8、膜厚控制儀：石英晶振膜厚控制儀,， 膜厚測量范圍 0-999999? |
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