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VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

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更新時間:2024-03-07 23:06:07瀏覽次數(shù):580

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品簡介:VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜,、合金薄膜,、半導體薄膜、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜,、光學薄膜、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等

詳細介紹


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產(chǎn)品簡介: VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜,、 導電薄膜,、合金薄膜、半導體薄膜,、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜、光學薄膜,、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙 烯薄膜等,。 VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜, 兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜,。 與同類設備相比,, 其不僅應用廣泛, 且具有體積小便于操 作的優(yōu)點,,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,, 特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及 OLED 等。




產(chǎn)品名稱

VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀

產(chǎn)品型號

VTC-600-3HD

安裝條件

本設備要求在海拔 1000m 以下,, 溫度 25℃±15℃ ,,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1,、水:設備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)


2,、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地


3,、氣:設備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度 99.99%以上),,需自備氬氣氣瓶(自帶 ?6mm 雙卡套


接頭)及減壓閥





4、工作臺: 尺寸 1500mm×600mm×700mm ,承重 200kg 以上


5,、通風裝置:需要

主要特點

1 ,、配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,,兩個配套直流電源用于導 電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任何調(diào)換),。


2、可制備多種薄膜,,應用廣泛,。


3、體積小,,操作簡便,。


4、整機模塊化設計,,真空腔室,、真空泵組、控制電源分體式設計,,可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整,。


5、可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,,可以一個電源控制多個靶槍,,也可多個電源單一控制靶槍。

技術參數(shù)

1,、電源電壓: 220V    50Hz


2,、總功率:<2.5KW


3、極限真空度: < E-6mbar  (配合本公司設備使用可達到img2E-5mbar


4,、工作溫度: RT-500℃,,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度)


5、靶槍數(shù)量: 3 


6,、靶槍冷卻方式:水冷


7 ,、靶材尺寸: ?2″ ,厚度 0.1mm-5mm  (因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)


8,、直流濺射功率: 500W (可選)


9、射頻濺射功率: 300W/500W (可選)


10,、載樣臺: ?140mm


11,、載樣臺轉(zhuǎn)速: 1rpm-20rpm 內(nèi)可調(diào)


12、保護氣體: Ar ,、N2 等惰性氣體


13,、進氣氣路: 質(zhì)量流量計控制 2 路進氣, 1 個流量為 100 SCCM 1 個流量為 200 SCCM

產(chǎn)品規(guī)格

主機尺寸: 500mm ×560mm×660mm ,,整機尺寸: 1300mm ×660mm×1200mm,;重量: 160kg

標準配件

1

直流電源控制系統(tǒng)

2 





2

射頻電源控制系統(tǒng)

1 

3

膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)

1 

4

分子泵(德國進口)

1 

5

冷水機

1 

6

冷卻水管(?6mm

4 

可選配件

金,、銦,、銀、鉑等各種靶材


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