產(chǎn)品簡介
詳細介紹
產(chǎn)品簡介: VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜,、 導電薄膜,、合金薄膜、半導體薄膜,、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜、光學薄膜,、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙 烯薄膜等,。 VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜, 兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜,。 與同類設備相比,, 其不僅應用廣泛, 且具有體積小便于操 作的優(yōu)點,,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,, 特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及 OLED 等。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀 |
產(chǎn)品型號 | VTC-600-3HD |
安裝條件 | 本設備要求在海拔 1000m 以下,, 溫度 25℃±15℃ ,,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 |
1,、水:設備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水) | |
2,、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地 | |
3,、氣:設備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度 99.99%以上),,需自備氬氣氣瓶(自帶 ?6mm 雙卡套 | |
接頭)及減壓閥 |
4、工作臺: 尺寸 1500mm×600mm×700mm ,承重 200kg 以上 5,、通風裝置:需要 | |||
主要特點 | 1 ,、配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,,兩個配套直流電源用于導 電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任何調(diào)換),。 2、可制備多種薄膜,,應用廣泛,。 3、體積小,,操作簡便,。 4、整機模塊化設計,,真空腔室,、真空泵組、控制電源分體式設計,,可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整,。 5、可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,,可以一個電源控制多個靶槍,,也可多個電源單一控制靶槍。 | ||
技術參數(shù) | 1,、電源電壓: 220V 50Hz 2,、總功率:<2.5KW 3、極限真空度: < E-6mbar (配合本公司設備使用可達到 4,、工作溫度: RT-500℃,,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度) | ||
5、靶槍數(shù)量: 3 個 6,、靶槍冷卻方式:水冷 7 ,、靶材尺寸: ?2″ ,厚度 0.1mm-5mm (因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同) 8,、直流濺射功率: 500W (可選) 9、射頻濺射功率: 300W/500W (可選) 10,、載樣臺: ?140mm 11,、載樣臺轉(zhuǎn)速: 1rpm-20rpm 內(nèi)可調(diào) 12、保護氣體: Ar ,、N2 等惰性氣體 13,、進氣氣路: 質(zhì)量流量計控制 2 路進氣, 1 個流量為 100 SCCM ,1 個流量為 200 SCCM | |||
產(chǎn)品規(guī)格 | 主機尺寸: 500mm ×560mm×660mm ,,整機尺寸: 1300mm ×660mm×1200mm,;重量: 160kg | ||
標準配件 | 1 | 直流電源控制系統(tǒng) | 2 套 |
2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1 套 | |
3 | 膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) | 1 套 | |
4 | 分子泵(德國進口) | 1 臺 | |
5 | 冷水機 | 1 臺 | |
6 | 冷卻水管(?6mm) | 4 根 | |
可選配件 | 金,、銦,、銀、鉑等各種靶材 |