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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

當(dāng)前位置：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>其他前道工藝設(shè)備>>6 清洗設(shè)備>> GNP CLEANER-428LCMP后清洗機(jī)

CMP后清洗機(jī)

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號GNP CLEANER-428L

品牌G&P

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地韓國

更新時間：2025-06-06 12:09:28瀏覽次數(shù)：405次

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GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個雙刷站,，設(shè)計緊湊,，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓,。

1. 產(chǎn)品概述：

適用晶圓尺寸:100mm(4) ~ 200mm(8")

配置:獨(dú)立配置4個清洗工位用DIW噴霧預(yù)清洗兩個雙面滾刷清洗用氮?dú)獯蹈尚D(zhuǎn)漂洗

清潔器尺寸:1800 w 970D 1500 hmm

電刷尺寸:038(OD) 018(ID) 310(L)mm

預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗,，工位間DIW帷幕清洗輥刷工位

化學(xué):2個化學(xué)泵(每個刷室1個)，NH4OH(< 0.1wt%)或DIW

刷型:雙面PVA刷刷位調(diào)節(jié):手動控制(可用刷隙范圍:-1.5mm ~ 2mm)

轉(zhuǎn)速:<滿量程的2%

范圍30 ~ 400rpm

化學(xué)品流量:滿量程< 1L/min

DI流量:滿量程< 5L/min

旋轉(zhuǎn)速度:高2500轉(zhuǎn)/分DIW沖洗/ N2吹掃/強(qiáng)掃

控制工藝:噴淋清洗/雙面刷清洗/旋漂干洗/濕洗/干洗

程序控制:PC & PC觸摸監(jiān)控,，程序可編程,，計算機(jī)網(wǎng)絡(luò)可比


6/8英寸全自動槽式清洗機(jī)

GAMA系列6/8英寸全自動槽式清洗機(jī)滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA

12英寸槽式清洗設(shè)備

12英寸槽式清洗設(shè)備Pinnacle300平臺適用于集成電路,、功率半導(dǎo)

全自動硅料清洗機(jī)

主要用于對硅材料行業(yè)中多晶硅塊進(jìn)行清洗干燥處理

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