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化學(xué)機械拋光機CMP
化學(xué)機械拋光機CMP簡介：1. 該化學(xué)機械拋光機可用于各類半導(dǎo)體集成電路、氧化物,、金屬,、STI、SOI等產(chǎn)品的CMP平坦化拋光,。通過更換拋光頭可兼容4,、6、8...
型號： customize... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 17:04:26 對比

化學(xué)機械拋光機拋光機機械拋光機 MCF
劃片機
精密劃片機,，劃片機簡介：半導(dǎo)體晶圓,、集成電路、QFN,、發(fā)光二極管,、LED芯片、太陽能電池,、電子基片等的劃切,，適用于包括硅、石英,、陶瓷,、氧化鋁、氧化鐵,、砷化鎵,、鈮...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:50:42 對比

劃片機精密劃片機激光劃片機
CMP后清洗機
CMP后清洗機簡介：該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專用清洗設(shè)備，有單工位,、轉(zhuǎn)位式,、連線式等不同結(jié)構(gòu)，以適用不同應(yīng)用場景,，其中連線式設(shè)備加配全自動上下片系統(tǒng),。該系列...
型號： customize... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:48:45 對比

CMP后清洗機干法清洗設(shè)備干法工藝設(shè)備 G＆P
減薄機
減薄機簡介：1. 可根據(jù)客戶需求定制化各類工作臺,，滿足各類半導(dǎo)體材料的研削薄化工藝2. 最大晶圓尺寸：8英寸3. 砂輪規(guī)格：Ø203(OD)mm4....
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:35:54 對比

半導(dǎo)體組裝與封裝減薄機夢啟
半導(dǎo)體研磨拋光機
半導(dǎo)體研磨拋光機是一款操作簡單的桌面型單面拋光設(shè)備，可搭配銅盤,、錫盤,、玻璃盤、不銹鋼盤等,，配合不同類型的拋光液,，適用于各種半導(dǎo)體材料的研磨拋光,，滿足科研院校,、企...
型號： customize... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:28:32 對比

半導(dǎo)體研磨拋光機半導(dǎo)體研磨機拋光機化學(xué)機械拋光機
中央供藥系統(tǒng)
中央供藥系統(tǒng)簡介：1.用于廠內(nèi)供藥，通過該系統(tǒng)可以按照設(shè)定的配比,，將特定的藥液通過相應(yīng)的管路供應(yīng)到制程中,。2.該系統(tǒng)供藥配比精確，配方可根據(jù)客戶需要進行編輯確認(rèn)...
型號： customize... 所在地：蘇州市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:19:03 對比

中央供藥系統(tǒng)供藥系統(tǒng)智程
全自動SCRUBBER清洗機
全自動SCRUBBER清洗機簡介：?清洗機可以用于對晶圓表面,，背面及晶圓邊緣的清洗,，通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細(xì)微顆粒污染物去除。通過大...
型號： customize... 所在地：上海市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:07:41 對比

全自動清洗機濕法清洗設(shè)備 customized
紫外線臭氧清洗機
UV-300H是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機,。通過滑動抽屜將基材裝入系統(tǒng)中,。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合,，可溫和而有效地去除硅,、玻璃、化合物半...
型號： UV-300H 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:39:31 對比

紫外線臭氧清洗機 UV-300H SAMCO
紫外線臭氧清洗機
UV-1是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機,。該系統(tǒng)將紫外線照射,、臭氧和平臺加熱結(jié)合在一起，溫和而有效地去除硅,、玻璃,、化合物半導(dǎo)體（GaN、GaAs,、InP,、SiC...
型號： UV-1 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:30:45 對比

紫外線臭氧清洗機 UV-1 SAMCO
全自動CMP拋光機
全自動CMP拋光機是一款針對薄膜（介質(zhì)層）的全自動拋光設(shè)備，操作便捷,，兼容性強,，通過更換拋光壓頭實現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用自動化裝片方式,，機械手自動取放片,，同...
型號： TPC-2110 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:27:31 對比

拋光
等離子清洗設(shè)備
PC-300等離子清洗設(shè)備是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染,。該工藝室允許用戶安裝多個電架,，架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產(chǎn)的...
型號： PC-300 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:27:23 對比

等離子清洗設(shè)備 PC-300 SAMCO
CMP拋光機
CMP拋光機是一款針對薄膜（介質(zhì)層）的拋光設(shè)備,，操作便捷，兼容性強,，通過更換拋光壓頭實現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容,，采用手動裝片方式，可配置半自動loading系統(tǒng),，氣...
型號： TMP-150A/... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:23:56 對比

拋光機
cmp拋光機
POLI-400Lcmp拋光機是4&6英寸小型化學(xué)機械拋光機,，采用手動裝片方式，氣囊薄膜柔性加壓,，可配置摩擦力&溫度終點監(jiān)控系統(tǒng),，用于氧化物、金屬,、STI,、SO...
型號： POLI-400L 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:17:26 對比

拋光機
CMP拋光機
POLI-500是小型8英寸CMP機臺，采用手動裝片方式,，可選配半自動loading托盤,，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監(jiān)控系統(tǒng),，用于氧化物,、金屬、S...
型號： POLI-500 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:16:20 對比

CMP
CMP拋光機
POLI-762是小型12英寸CMP機臺,，采用手動裝片方式,，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓,，可配置摩擦力&溫度終點監(jiān)控系統(tǒng),，用于氧化物、金屬,、...
型號： POLI-762 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:15:12 對比

拋光機
LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備
LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備系統(tǒng)安裝的 IDM 和晶圓代工廠,，是大批量制造 40nm 至 140nm 節(jié)點的先進邏輯器件的技術(shù)。LSA 101 的掃描技術(shù)...
型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 15:13:03 對比

退火爐激光退火
離子注入機
離子注入機是高壓小型加速器中的一種,，應(yīng)用數(shù)量最多,。它是由離子源得到所需要的離子，經(jīng)過加速得到幾百千電子伏能量的離子束流,，用做半導(dǎo)體材料,、大規(guī)模集成電路和器件的離...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:25:56 對比

離子注入機離子注入設(shè)備離子注入愛發(fā)科 ULVAC
快速退火爐RTP
快速退火爐RTP主要功能：快速熱退火，快速熱氧化,，快速熱氮化,，擴散，化合物半導(dǎo)體退火，離子注入后退火,，電極合金化等,。樣片尺寸：8inch，向下兼容,，支持不規(guī)整樣...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:21:08 對比

快速退火爐RTP 快速退火爐退火爐 UNITEMP 尤尼坦
電鍍設(shè)備
電鍍設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：Pillar,，Bump，RDL,，TSV等工藝 (3) 設(shè)備配置：最多3個loadport ; 最多24個電鍍腔體：Cu,、Ni、Sn/Ag,、...
型號： customize... 所在地：蘇州市參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:17:52 對比

電鍍設(shè)備
激光退火設(shè)備
半導(dǎo)體激光退火機是用于半導(dǎo)體制造過程中的一種設(shè)備,。退火是一種熱處理過程，通過加熱半導(dǎo)體材料來改變其性質(zhì),，以實現(xiàn)所需的特性,，如電導(dǎo)率、晶體結(jié)構(gòu)和應(yīng)力緩解,。半導(dǎo)體激...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:14:17 對比

激光退火設(shè)備退火爐華卓精科 customized

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

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