1. 產(chǎn)品概述
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng),,優(yōu)良的磁控濺射系統(tǒng),,有效提高薄膜均勻性及靶材利用率,。
2. 設(shè)備用途/原理
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng),優(yōu)良的磁控濺射系統(tǒng),,有效提高薄膜均勻性及靶材利用率,,加熱基座和高溫靜電卡盤設(shè)計(jì),具備良好的溫度均勻性,,全新雙腔傳輸平臺(tái),,可配置性強(qiáng),多可支持 10 個(gè)工藝模塊,,優(yōu)質(zhì)的 Whisker 解決方案,,降低產(chǎn)品缺陷,大產(chǎn)能,,低運(yùn)營(yíng)成本,。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
晶圓尺寸 8、12 英寸,,適用材料 高溫鋁,、氮化鉭、氮化鈦,。適用工藝 熱鋁,、鋁焊盤、鋁線,,適用域 新興應(yīng)用,。