1. 產(chǎn)品概述
GDE C200系列 高密度刻蝕機(jī)，等離子體源和頻率設(shè)計，等離子體密度高,，適用于強(qiáng)鍵合材料刻蝕。
2. 設(shè)備用途/原理
GDE C200系列 高密度刻蝕機(jī),，等離子體源和頻率設(shè)計,，等離子體密度高，適用于強(qiáng)鍵合材料刻蝕,。刻蝕速率,、刻蝕均勻性、PM 周期,。應(yīng)用域廣泛,，包括功率器件、濾波,、射頻和光電等域的多種材料刻蝕,。工藝種類多樣，包括碳化硅刻蝕,、鋁鈧氮刻蝕,、PZT 刻蝕、砷化鎵刻蝕,、鈮酸鋰刻蝕,、氮化硅刻蝕,、 磷化銦刻蝕。靈活的系統(tǒng)配置,，適合研發(fā),、中試線、大規(guī)模生產(chǎn)線的不同應(yīng)用,。適配多種終點(diǎn)檢測方法,。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
晶圓尺寸 8 英寸及以下，適用材料 碳化硅,、氮化硅,、鋁鈧氮、鉬,、鋁氮,、鋯鈦酸鉛、砷化鎵,、磷化銦,、鈮酸鋰、介質(zhì),。適用工藝 碳化硅通孔刻蝕,、碳化硅柵槽刻蝕、鉬-鋁氮/鋁鈧氮刻蝕,、砷化鎵背孔工藝,、 光波導(dǎo)工藝等多種材料刻蝕工藝,。適用域 新興應(yīng)用,、集成電路、化合物半導(dǎo)體,、科研,。
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