光學真空鍍膜機

是一種用于物理學,、化學、材料科學領(lǐng)域的工藝試驗儀器是一種用于物理學,、化學,、材料科學領(lǐng)域的工藝試驗儀器

特點：

1,、支持向上或向下的鍍膜方式,；

2、*的濺射靶材結(jié)構(gòu)設(shè)計,，實現(xiàn)膜厚分部的穩(wěn)定可靠,；

3、高速旋轉(zhuǎn)的傘具與實際鍍膜工件的監(jiān)控位置,，實現(xiàn)了所見即所得,；

4、多通道透射式監(jiān)控,，配合可調(diào)節(jié)膜厚修正板,，實現(xiàn)了膜厚分布的反饋控制；

5,、支持任意膜厚的控制,；

6、通用的控制平臺,，友好的人機界面,，使客戶可以自行設(shè)置鍍膜機的所有控制參數(shù)；

7,、開放式接口，方便安裝第三方的光學膜厚儀,；

8,、氣流和氣壓同時實時控制，適用出氣量大的低溫鍍膜,。

光學真空鍍膜機

工藝參數(shù)：

1,、真空系統(tǒng)

     a) 極限真空度：4.0×10-5Pa 

     b) 抽至10Pa所用時間：≦ 10 分鐘

     c) 漏率： 3.0×10-5Pa m3/sec

2、控制精度

     a) 靶材尺寸：8寸直徑

     b) 工件旋速: 20-120RPM

     c) 工件尺寸：直徑900mm

     d) 離子源：等離子體離子源

     e) 加熱溫度：上下雙加熱控制,，Z高溫度350度

     f）高真空泵：DN400油擴散泵或電子泵

     g）低真空泵組：機械泵+羅茨泵機組

     h）冷阱：雙組Polycold

3,、光學監(jiān)控系統(tǒng)OMS

     a) 波長精度：0.2nm

     b) 光強波動: 白光< 0.1%，激光< 0.02%

     c) 波長范圍: 400nm-1650nm