一體式磁控濺射鍍膜機(jī)為高真空多功能三靶位(永磁靶)磁控濺射鍍膜系統(tǒng),系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級(jí)的單層及多層功能膜和復(fù)合膜-可鍍金屬,、合金、化合物,、半導(dǎo)體,、陶瓷膜(需配射頻電源)、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜等,。系統(tǒng)主要由濺射室,、永磁磁控濺射靶(三個(gè)靶)、直流電源,、全自動(dòng)匹配射頻電源,、樣品臺(tái)、樣品加熱爐,、泵抽系統(tǒng),、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng),、電控系統(tǒng)等組成,。可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)鍍膜控制。真空室采用臥式前開門結(jié)構(gòu),,有利于靶材更換及裝卸樣品,,內(nèi)部裝有便于更換的防污襯板,減少真空室污染,,利于整體清潔,。鍍膜工藝壓力控制采用電動(dòng)插板閥+MFC自動(dòng)控制,保證鍍膜鍍膜工藝具有較高的可靠性,、穩(wěn)定性和重復(fù)性,。
該系統(tǒng)為單室結(jié)構(gòu),主要由濺射真空室,、磁控濺射靶,、自轉(zhuǎn)基片臺(tái)、加熱系統(tǒng),、直流電源,、射頻電源、工作氣路,、真空獲得系統(tǒng),、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量,、水冷卻及報(bào)警系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成,,可用于金屬薄膜、介質(zhì)膜等的制備,。
加熱裝置在真空室上法蘭上,,對(duì)基片托板進(jìn)行加熱,通過(guò)熱電偶控制控溫電源實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制,,系統(tǒng)由加熱器和1個(gè)加熱控溫電源組成,,加熱電源配備日本進(jìn)口控溫表,控溫方式為PID自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示,;樣品加熱溫度:室溫~600°C,,連續(xù)可調(diào)。