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目錄:深圳市達瑞博電子有限公司>>光學儀器及設備>>晶圓檢測儀>> 2135晶圓檢測儀

晶圓檢測儀
  • 晶圓檢測儀
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 品牌 KLA-Tencor
  • 型號 2135
  • 廠商性質 經銷商
  • 所在地 深圳市
屬性

產地類別:進口 應用領域:電子,綜合

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更新時間:2024-09-23 20:25:59瀏覽次數(shù):381評價

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產地類別 進口 應用領域 電子,綜合
KLA-Tencor 2135 晶圓檢測儀是一種高duan的掩模和晶圓檢測系統(tǒng),具有多種先進技術和高靈敏度成像功能,。以下是其詳細規(guī)格參數(shù):
用途:主要用于圖案化晶圓的缺陷檢測,,以監(jiān)控生產過程中的顆粒和缺陷,從而提高產量,。
晶圓尺寸:目前配置為200毫米(8英寸)晶圓,,但可以處理4英寸、5英寸和6英寸的晶圓,。
吞吐量:大約為每小時8至20個晶圓,。
靈敏度:能夠檢測大于0.25微米的像素。

KLA-Tencor 2135 晶圓檢測儀


KLA-Tencor 2135 是一種高duan的掩模和晶圓檢測系統(tǒng),,具有多種先進技術和高靈敏度成像功能,。以下是其詳細規(guī)格參數(shù):


1. **用途**:主要用于圖案化晶圓的缺陷檢測,以監(jiān)控生產過程中的顆粒和缺陷,,從而提高產量,。


2. **晶圓尺寸**:目前配置為200毫米(8英寸)晶圓,但可以處理4英寸,、5英寸和6英寸的晶圓。


3. **吞吐量**:大約為每小時8至20個晶圓,。


4. **靈敏度**:能夠檢測大于0.25微米的像素,。


5. **技術特點**:

   - 利用多種技術來檢測掩模和標線上的缺陷,包括光學檢查、激光掃描,、電子束掃描和參數(shù)分析等,。

   - 光學檢查可以識別小至30納米的特征。

   - 提供出色的動態(tài)范圍圖像,,并使用了多種高分辨率掃描技術,。

   - 設計用于對低至35納米的小結構進行精確、高分辨率的成像,,提供高速度和精確度,。


6. **系統(tǒng)配置**:

   - 當前配置為真空處理開放式處理器。

   - 模塊化設計,,能夠快速,、準確地測量和分析光刻掩模和晶片中的臨界模式。


7. **其他功能**:

   - 能夠檢測和分析0.18微米至7納米特征尺寸的缺陷,。

   - 提供快速可靠的流程控制,,具有低錯誤缺陷呼叫率。


KLA-Tencor 2135 是一款功能強大且高效的掩模和晶圓檢測設備,,適用于半導體工業(yè)中各種復雜和精細的檢測需求,。



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