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LSC-5000全自動兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)：
Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性,、高均勻性及*進的兆聲清洗,、兆聲輔助下光刻膠剝離,，以及濕法刻蝕,。該系統(tǒng)為全自動機械手上下載片,，可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗,、刷子清洗以及干燥功能,。
產(chǎn)品簡介
詳細介紹
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)概述：
技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,，可以幫助用戶獲得zui干凈的晶圓片和掩模版,。
German First Nano System提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于*進的無損兆聲清洗,?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版,。為了在確保不損傷基片的情況下達到*化的清洗效果,，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值,。German Fisrt Nano System 技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的zui大化支持的清洗,，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi),。
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)應(yīng)用：
濕法刻蝕
硅片
藍寶石片
圓框架上的芯片
顯示面板
ITO涂覆的顯示屏
帶保護膜的分劃版
掩模版空白部位
掩模版接觸部位
帶保護膜/不帶保護膜的掩模版
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)的特點：
支持450mm直徑的圓片或15"x15"方片
帶兆聲、DI,、刷子,、熱DI、高壓DI,、熱氮,、化學(xué)試劑滴膠臂的大腔體
帶化學(xué)試劑滴膠的刷子轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)
帶LABVIEW軟件的PC全自動控制
觸摸屏用戶界面
機械手上下載片，帶EFEM以及SMIF界面
安全互鎖及警報裝置
30"D x 26"W 的占地面積
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)選配項：
化學(xué)試劑傳輸模塊
Piranha溶液清洗
臭氧化DI水（20ppm的O3）
氫化的DI水
高壓DI水
熱DI水
溶劑和酸分離排放
IR紅外加熱
DI水循環(huán)機
耐火立柜