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產(chǎn)品簡介
等離子刻蝕ICP廠家提供詳細的適用范圍,能力信息,。
詳細介紹
等離子刻蝕ICP具有預真空室的反應離子刻蝕機
等離子刻蝕ICP可適用于單個基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸),，為實驗室和試制線生產(chǎn)環(huán)境提供的刻蝕能力,。它也具有多尺寸批處理功能(4x3”; 3x4”; 7x2”),。
系統(tǒng)有多達七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜,，如氧化硅,、氮化硅、多晶硅,、鋁,、砷化鎵、鉻,、銅,、磷化銦和鈦。該反應室還可以用于去除光刻膠和有機材料,?？蛇x配靜電吸盤(E-chuck)，以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻,。該E-chuck使用氦壓力控制器,，及在基片背面保持一個氦冷卻層，從而達到控制基片溫度的作用,。
可選配一個電感耦合等離子(ICP)源,，其使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能,。
基片通過預真空室裝入,。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶安全性。預真空室還使得工藝室始終保持在真空下,，從而隔絕外部濕氣,，防止反應室內可能發(fā)生的腐蝕。