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mask aligner半自動光刻機(jī)

半自動光刻機(jī)
光刻機(jī)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng),，光刻機(jī),，紫外曝光機(jī)等；
MIDAS為全球*的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子,、生物器件和納米科技領(lǐng)域,；該公司是目前世界上較早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力,；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè),、研發(fā)中心、研究所和高校所采用,；以優(yōu)秀的技術(shù),、工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞,。

產(chǎn)地：韓國MIDAS公司,，一能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機(jī)，高性價比
型號：MDA-400M, MDA-60MS



mask aligner半自動光刻機(jī)主要特點:
- 光源強(qiáng)度可控；
- 紫外曝光,，深紫外曝光(Option)；
- 系統(tǒng)控制：手動,、半自動和全自動控制,；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盤范圍可調(diào),；
- 技術(shù)：可雙面對準(zhǔn),，可雙面光刻，具有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統(tǒng),，最大放大1000倍,，顯示屏直接調(diào)節(jié)，比傳統(tǒng)目鏡對準(zhǔn)更方便快捷,，易于操作,。
- 特殊的基底卡盤可定做；
- 具有楔形補(bǔ)償功能,；