等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)采用*大的腔室和等離子ALD模塊,獲得**的原子層沉積效果。
ALD系統(tǒng),原子層沉積設(shè)備 參考價(jià)：面議
ALD系統(tǒng)AT410提供了用于3D樣品制備的共形導(dǎo)電薄膜解決方案，同時(shí)還提供了目前使用濺射/蒸發(fā)生長(zhǎng)的傳統(tǒng)2D涂層,。
KPFM-SKPM開爾文探針力顯微鏡 參考價(jià)：面議
這款KPFM開爾文探針力顯微鏡,SKPM掃描開爾文探針力顯微鏡(Kelvin Probe Force Microscopy)可以訪問從50mm到350mm的樣品...
表面光電壓譜儀 參考價(jià)：面議
表面光電壓譜儀是專業(yè)為研究光敏材料（如有機(jī)半導(dǎo)體,、太陽能電池或光敏染料）設(shè)計(jì)的表面光電壓儀器,Surface Photovoltage.
掃描開爾文探針系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
大面積掃描開爾文探針系統(tǒng)能夠在垂直方向移動(dòng)開爾文探針實(shí)現(xiàn)電動(dòng)控制開爾文探針與樣品的距離,。 樣品安裝到真空吸盤上，真空吸盤可帶著樣品移動(dòng)150x150mm位移,，從...
單點(diǎn)開爾文探針系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
我們的單點(diǎn)開爾文探針系統(tǒng)采用非零信號(hào)檢測(cè)方法對(duì)材料的功函數(shù)/費(fèi)米能級(jí)進(jìn)行非常高質(zhì)量的測(cè)量,。
超高真空開爾文探針系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
超高真空開爾文探針系統(tǒng)幫助用戶充分利用真空下的工作功能和接觸電位差（CPD）測(cè)量。每個(gè)系統(tǒng)都配有高質(zhì)量的手動(dòng)或電動(dòng)轉(zhuǎn)換器,，可實(shí)現(xiàn)可靠和準(zhǔn)確的針尖到樣品定位,，跟蹤...
開爾文探針系統(tǒng),Kelvin Probe 參考價(jià)：面議
開爾文探針系統(tǒng)Kelvin Probe可用于光電化學(xué)中,精確測(cè)量不同半導(dǎo)體和導(dǎo)電材料的功函數(shù)，精度高,。表面態(tài)在樣品的電荷轉(zhuǎn)移和功函數(shù)變化中起著重要作用,。
低溫UHV掃描探針顯微鏡 參考價(jià)：面議
這款低溫UHV掃描探針顯微鏡是超高真空室內(nèi)應(yīng)用設(shè)計(jì)的高真空低溫SPM掃描探針顯微鏡。樣品預(yù)處理和探針清洗可在超高真空室中進(jìn)行,，使超低溫STM/AFM能夠進(jìn)行原子...
超低溫磁場(chǎng)掃描隧道顯微鏡 參考價(jià)：1500000
超低溫磁場(chǎng)掃描隧道顯微鏡是超低溫高磁場(chǎng)表面物理研究設(shè)計(jì)的STM掃描隧道顯微鏡,。廣泛應(yīng)用于表面科學(xué)研究的前沿領(lǐng)域，實(shí)現(xiàn)了低溫和高磁場(chǎng)的掃描隧道顯微鏡商用化
超高真空超低溫四探針SPM顯微鏡 參考價(jià)：面議
這超高真空超低溫四探針SPM是超高真空室內(nèi)應(yīng)用設(shè)計(jì)的UHV極低溫多探針掃描探針顯微鏡,，得益于多探針SPM優(yōu)異性能,這款產(chǎn)品可用于納米技術(shù)
低溫高真空針尖增強(qiáng)拉曼光譜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
低溫高真空針尖增強(qiáng)拉曼光譜系統(tǒng)采用一種低溫單分子成像方法,在低溫高真空條件下,，可實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)拉曼光譜成像，提高信噪比和靈敏度
超高真空極低溫強(qiáng)磁場(chǎng)掃描隧道顯微鏡 參考價(jià)：1500000
超高真空極低溫強(qiáng)磁場(chǎng)掃描隧道顯微鏡是高性能掃描隧道顯微鏡應(yīng)用于前沿表面科學(xué)研究的理想工具,實(shí)現(xiàn)了低溫和強(qiáng)磁場(chǎng),?；鶈柨蛇_(dá)40mK （typecal 30 mK），...
聚焦離子束蝕刻系統(tǒng) 參考價(jià)：1200000
這套聚焦離子束蝕刻系統(tǒng)是一種超高真空UHV條件多功能FIB系統(tǒng),既可以配置為掃描電子顯微鏡SEM,也可以配置為結(jié)合SEM和高性能聚焦離子束FIB的雙束平臺(tái),。
高壓濺射PVD物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：550000
高壓PVD系統(tǒng)配置適合在晶圓濺射金屬膜,磁性材料,多組分氧化物,得益于它靈活的配置和特殊的晶圓加熱器設(shè)計(jì),PVD可以在溫度最高900℃的襯底上濺射金屬膜層和磁性...
磁控濺射物理氣相沉積PVD系統(tǒng) 參考價(jià)：800000
磁控濺射物理氣相沉積是多功能高壓PVD系統(tǒng),用于磁控濺射和多組分薄膜的熱蒸發(fā),，用于批量晶圓物理氣相沉積加工.磁控濺射物理氣相沉積可在加熱至700℃的晶圓上濺射多...
電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：1200000
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是按照“從實(shí)驗(yàn)室到工廠"的方法設(shè)計(jì)的電子束鍍膜蒸發(fā)系統(tǒng),既適用于密集的研發(fā)活動(dòng)，也適用于中試生產(chǎn),。
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：1000000
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是采用PECVD技術(shù)專業(yè)為介質(zhì)膜鍍膜設(shè)計(jì)的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,。
晶圓真空氧化退火熱處理系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
這款半導(dǎo)體晶圓熱處理系統(tǒng)是為半導(dǎo)體晶圓在可控氣體、真空,、氧化或還原氣氛中的晶圓高溫處理系統(tǒng),，可對(duì)晶圓真空退火，氧氣退火處理,。 鋁室的特殊設(shè)計(jì)允許在*溫度（高達(dá)1...
晶圓熱退火爐 參考價(jià)：面議
這款晶圓熱退火爐是半導(dǎo)體晶片惰性氣氛快速熱退火系統(tǒng),適合晶圓的最大直徑為100mm,晶圓通過上部快速檢修門手動(dòng)裝入腔室,，并放置在熱補(bǔ)償石墨臺(tái)上。加熱器系統(tǒng)基于線...
COVAP物理氣相沉積系統(tǒng),PVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
COVAP物理氣相沉積系統(tǒng)為許多工藝應(yīng)用提供緊湊,、經(jīng)濟(jì),、但仍然穩(wěn)健的PVD解決方案。
物理氣相沉積平臺(tái)PVD,濺射,電子束蒸發(fā) 參考價(jià)：面議
多功能物理氣相沉積平臺(tái)可搭載濺射,熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā),等離子體和離子束處理功能模塊,是多功能PVD系統(tǒng),。允許更大的腔室投擲距離,，并能夠適應(yīng)更多工藝增強(qiáng)。
磁控濺射沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：800000
磁控濺射系統(tǒng)MagSput™是下一代磁控濺射沉積系統(tǒng),，實(shí)用性腔,可擴(kuò)展性高,且高度可靠,非常適合磁控濺射鍍膜科學(xué)研究,。磁控濺射系統(tǒng)可定制,。該腔室可設(shè)...
離子束沉積系統(tǒng),離子shu沉積濺射鍍膜 參考價(jià)：面議
離子束沉積系統(tǒng)IBD采用真空沉積工藝，使用直接聚焦在濺射靶上的寬束離子源實(shí)現(xiàn)離子束沉積濺射鍍膜,。然后,，來自靶材的濺射材料沉積在附近的襯底上形成薄膜。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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