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磁控濺射系統(tǒng)MagSput™是下一代磁控濺射沉積系統(tǒng),，實用性腔,可擴(kuò)展性高,且高度可靠,非常適合磁控濺射鍍膜科學(xué)研究。
磁控濺射系統(tǒng)可定制,。該腔室可設(shè)計為接受額外的蒸發(fā)源,，未使用的端口用法蘭封閉,，以便將來添加。
磁控濺射系統(tǒng)附加設(shè)備可以包括磁控管槍,、熱阻源或電子束蒸發(fā),。
磁控濺射系統(tǒng)MagSput™是專為研發(fā)和原型生產(chǎn)而設(shè)計的柔性平面磁控濺射系統(tǒng)。該系統(tǒng)可用于開發(fā)各種應(yīng)用的沉積工藝,，包括多層光學(xué)涂層,、傳感器設(shè)備、太陽能電池,、燃料電池,、薄膜研究、超導(dǎo)體研究,、ASIC,、MEMs、磁性設(shè)備和生物醫(yī)學(xué)研究,。
柔性平面磁控濺射
磁控濺射系統(tǒng)MagSput™易于重新配置,，適用于需要不同系列沉積材料的應(yīng)用。該系統(tǒng)處理直徑達(dá)12英寸的晶片,，并容納奇數(shù)尺寸的基板,。此外，由于多槍能力,，可以進(jìn)行共濺射,、不破壞真空的順序濺射和反應(yīng)濺射（使用活性氣體混合物）。帶有特殊安裝的獨(dú)立火炮可進(jìn)行角度調(diào)整,。
磁控濺射系統(tǒng)MagSput™采用基于Labview™的軟件,帶來了*****,、用戶友*的計算機(jī)控制™ ,該軟件的自動過程控制確保了*有效的沉積以及操作的簡便性。手動選項可輕松啟動和故障排除,。

磁控濺射系統(tǒng)規(guī)格參數(shù)
電拋光不銹鋼腔室（D形盒）
帶手動快門的前門上的4“直徑觀察口
具有各種靶尺寸的單/多磁控管槍組件
所有光源的手動快門組件
直流/射頻濺射沉積
匹配雙級旋轉(zhuǎn)葉片泵的渦輪分子真空泵系統(tǒng)
帶沉積控制器的石英晶體厚度傳感器
帶數(shù)字讀數(shù)的質(zhì)量流量控制器
帶顯示和讀數(shù)的全量程真空計
容易的目標(biāo)安裝
半自動控制系統(tǒng)