化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>有掩模光刻機(jī)> Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)

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Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司
品牌 OAI
型號(hào)
產(chǎn)地 美國(guó)
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2025/7/4 10:46:38
訪問次數(shù) 43

產(chǎn)品標(biāo)簽

OAI 光刻機(jī)掩膜曝光機(jī)

在線交流發(fā)送詢價(jià) 進(jìn)入商鋪同類產(chǎn)品

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FIRSTNANO成立于2012年,，一家由三位材料學(xué)博士共同創(chuàng)辦的德國(guó)公司,。基于 “Science is international”的想法,，“全球協(xié)同實(shí)驗(yàn)室”成為三位博士追逐的夢(mèng)想,。

公司愿景是從科學(xué)家到科學(xué)家，科學(xué)開創(chuàng)美好未來,。

FIRSTNANO深耕于半導(dǎo)體技術(shù),、材料科學(xué)、生命科學(xué)等科研領(lǐng)域,，始終秉承“前沿,、專業(yè)、科學(xué)”的宗旨,，將前沿技術(shù)引進(jìn)到協(xié)同實(shí)驗(yàn)室,。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程；材料科學(xué)的檢測(cè),、分析,；生命科學(xué)成像，腦科學(xué)與行為認(rèn)知等相關(guān)領(lǐng)域,。作為全球科技前沿的儀器供應(yīng)商,，FIRSTNANO具有全球技術(shù)視野、優(yōu)質(zhì)供應(yīng)體系,、以及嚴(yán)格的質(zhì)量管控系統(tǒng),，能為客戶提供前沿的技術(shù)解決方案,。

公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛，其中包括消費(fèi)電子,、航空,、航天、醫(yī)藥技術(shù),、半導(dǎo)體行業(yè),、光電子行業(yè)、高校和研究機(jī)構(gòu),。

在成長(zhǎng)的過程中,，我們腳踏實(shí)地、奮勇向前,。自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來,，我們一相繼在香港、深圳,、上海和武漢設(shè)立了分支機(jī)構(gòu),。

我們真誠(chéng)邀請(qǐng)業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM，一起為夢(mèng)想揚(yáng)帆起航,！

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Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)

在半導(dǎo)體行業(yè)擁有超過 40 年的制造經(jīng)驗(yàn),，OAI 憑借全新精英級(jí)生產(chǎn)型光刻設(shè)備，從容應(yīng)對(duì)瞬息萬變的市場(chǎng)所帶來的日益嚴(yán)峻的挑戰(zhàn),。6000 系列基于經(jīng)過驗(yàn)證的 OAI 模塊化平臺(tái)打造而成,，是一套全自動(dòng)盒對(duì)盒系統(tǒng)，具備亞微米分辨率,，其性能在同價(jià)位設(shè)備中很高,。

該對(duì)準(zhǔn)器配備先進(jìn)的光束光學(xué)系統(tǒng)，均勻性優(yōu)于 ±3%,，且在首掩模模式下的吞吐量可達(dá) 200 片晶圓 / 小時(shí),，從而顯著提高良率。

6000 型設(shè)備能夠處理多種類型的晶圓,，包括厚基板,、鍵合基板（厚度可達(dá) 7000 微米）、翹曲晶圓（翹曲度可達(dá) 7 毫米 - 10 毫米）,、薄基板（厚度低至 100 微米）以及厚光刻膠,。

憑借工藝重復(fù)性，6000 型設(shè)備成為各類生產(chǎn)環(huán)境的理想解決方案,?？蛇x擇正面對(duì)準(zhǔn)，或選裝背面對(duì)準(zhǔn) —— 背面對(duì)準(zhǔn)采用康耐視（Cognex™）M 圖案識(shí)別軟件與 OAI 的圖案輔助軟件，這款軟件能進(jìn)一步提升整體吞吐量,。在整個(gè)光刻流程中，6000 型設(shè)備可與集群工具實(shí)現(xiàn)無縫集成,。OAI 全新的生產(chǎn)型掩模對(duì)準(zhǔn)器堪稱一站式解決方案,。

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高度優(yōu)化的產(chǎn)能
首掩模模式下可達(dá) 200 片 / 小時(shí)（WPH）

先進(jìn)的光束光學(xué)系統(tǒng)
均勻性優(yōu)于 ±3%

豐富的晶圓處理能力
包括厚基板、鍵合基板及翹曲基板

楔效應(yīng)調(diào)平

工藝重復(fù)性

亞微米分辨率

遠(yuǎn)程診斷功能

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)