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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>有掩模光刻機(jī)> Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)

Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
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OAI光刻機(jī)

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FIRSTNANO成立于2012年,,一家由三位材料學(xué)博士共同創(chuàng)辦的德國公司?;?/span> Science is international”的想法,,“全球協(xié)同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。

公司愿景是從科學(xué)家到科學(xué)家,,科學(xué)開創(chuàng)美好未來,。

FIRSTNANO深耕于半導(dǎo)體技術(shù)、材料科學(xué),、生命科學(xué)等科研領(lǐng)域,,始終秉承“前沿、專業(yè),、科學(xué)”的宗旨,,將前沿技術(shù)引進(jìn)到協(xié)同實驗室。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程,;材料科學(xué)的檢測,、分析;生命科學(xué)成像,,腦科學(xué)與行為認(rèn)知等相關(guān)領(lǐng)域,。作為全球科技前沿的儀器供應(yīng)商,FIRSTNANO具有全球技術(shù)視野、優(yōu)質(zhì)供應(yīng)體系,、以及嚴(yán)格的質(zhì)量管控系統(tǒng),,能為客戶提供前沿的技術(shù)解決方案。

公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛,,其中包括消費電子,、航空、航天,、醫(yī)藥技術(shù),、半導(dǎo)體行業(yè)、光電子行業(yè),、高校和研究機(jī)構(gòu),。

在成長的過程中,我們腳踏實地,、奮勇向前,。自2015年香港(中華區(qū))公司成立以來,我們一相繼在香港,、深圳,、上海和武漢設(shè)立了分支機(jī)構(gòu)。

我們真誠邀請業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM,,一起為夢想揚帆起航,!

 

 

 

 

 

半導(dǎo)體儀器和電子產(chǎn)品耗材耗材

Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)

Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)

Model212 大面積掩模對準(zhǔn)器是一款高性價比的高性能掩模對準(zhǔn)器,其采用了 OAI 經(jīng)行業(yè)驗證的組件,,正是這些組件使 OAI 在光刻設(shè)備行業(yè)處于地位,。212 型是一款臺式掩模對準(zhǔn)器,所需潔凈室空間極小,,為大面積基板,、液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管,、面板級封裝和有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的研發(fā)提供了經(jīng)濟(jì)實惠的選擇。借助 OAI 創(chuàng)新的真空吸盤調(diào)平系統(tǒng),,大面積基板(最大可達(dá) 12 英寸 ×12 英寸或 300 毫米 ×300 毫米)能快速,、輕柔地實現(xiàn)調(diào)平,確保在曝光過程中光刻掩模的精準(zhǔn)對準(zhǔn)和均勻接觸,。該系統(tǒng)可實現(xiàn) 1 微米的分辨率和對準(zhǔn)精度,。對準(zhǔn)模塊配備了掩模插入組和快換式晶圓吸盤,無需專用工具即可便捷使用多種基板和掩模,。212 型大面積掩模對準(zhǔn)器配備了經(jīng)過驗證的 OAI 紫外線光源,,使用功率范圍為 200 至 2000 瓦的燈,可提供近紫外、中紫外或深紫外的準(zhǔn)直紫外光,。雙傳感器光學(xué)反饋回路與恒定強(qiáng)度控制器相連,,將曝光強(qiáng)度控制在所需強(qiáng)度的 ±2% 以內(nèi)。


可處理的基板尺寸最大為 12 英寸 ×12 英寸或 300 毫米 ×300 毫米


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特點

占地面積小
價格實惠
精密對準(zhǔn)
紫外光具有高準(zhǔn)直性和均勻性
可輕松適配多種大面積基板和掩模


Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)

Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)規(guī)格參數(shù)

Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)





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