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舉報評價

Model 200 紫外掩膜曝光機

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱 德國韋氏納米系統(tǒng)有限公司
品牌 OAI
型號
產(chǎn)地美國
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2025/7/4 10:38:11
訪問次數(shù) 44

產(chǎn)品標簽

OAI 光刻機

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FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料學(xué)博士共同創(chuàng)辦的德國公司,?；?/span> “Science is international”的想法，“全球協(xié)同實驗室”成為三位博士追逐的夢想,。

公司愿景是從科學(xué)家到科學(xué)家,，科學(xué)開創(chuàng)美好未來。

FIRSTNANO深耕于半導(dǎo)體技術(shù),、材料科學(xué),、生命科學(xué)等科研領(lǐng)域，始終秉承“前沿,、專業(yè),、科學(xué)”的宗旨，將前沿技術(shù)引進到協(xié)同實驗室,。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程,；材料科學(xué)的檢測、分析,；生命科學(xué)成像,，腦科學(xué)與行為認知等相關(guān)領(lǐng)域。作為全球科技前沿的儀器供應(yīng)商,，FIRSTNANO具有全球技術(shù)視野,、優(yōu)質(zhì)供應(yīng)體系,、以及嚴格的質(zhì)量管控系統(tǒng)，能為客戶提供前沿的技術(shù)解決方案,。

公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛,，其中包括消費電子、航空,、航天,、醫(yī)藥技術(shù)、半導(dǎo)體行業(yè),、光電子行業(yè)、高校和研究機構(gòu),。

在成長的過程中,，我們腳踏實地、奮勇向前,。自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來,，我們一相繼在香港、深圳,、上海和武漢設(shè)立了分支機構(gòu),。

我們真誠邀請業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM，一起為夢想揚帆起航,！

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Model 200 紫外掩膜曝光機

Model 200 紫外掩膜曝光機

OAI 200 型掩模對準器和紫外曝光系統(tǒng)是一款高性價比的高性能工具,，其采用了行業(yè)模塊化組件，這使得 OAI 在微機電系統(tǒng)（MEMS）,、納米技術(shù)和半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)處于優(yōu)勢地位,。200 型是一款臺式設(shè)備，所需潔凈室空間極小,。它為研發(fā),、中試或小批量生產(chǎn)提供了經(jīng)濟實惠的選擇。該系統(tǒng)采用創(chuàng)新的氣浮 / 真空吸盤調(diào)平系統(tǒng),，能快速,、輕柔地對基板進行調(diào)平，確保在接觸曝光過程中,，光刻掩模與晶圓平行對準且全面均勻接觸,。該系統(tǒng)可實現(xiàn)微米級分辨率和對準精度。對準模塊配備了掩模插入組和快換式晶圓吸盤,，無需工具重新配置,，即可使用多種基板和掩模。對準模塊集成了用于 X,、Y 和 θ 軸的千分尺,。200 型對準器可配備多種對準光學(xué)器件,，包括背面紅外（IR）對準器件。紅外照明真空吸盤可配置用于整片晶圓或晶圓碎片的對準,。OAI 200 型可配置 OAI 納米壓印模塊,，使其成為市面上低成本的納米壓印（NIL）工具,。OAI 還提供一種模塊,，專為使用液態(tài)光聚合物快速原型制作或生產(chǎn)微流控器件而設(shè)計。

200 型配備了可靠的 OAI 光源,，使用功率范圍為 200 至 2000 瓦的燈,，可提供近紫外或深紫外的準直紫外光。雙傳感器光學(xué)反饋回路與恒定強度控制器相連,，將曝光強度控制在所需強度的 ±2% 以內(nèi),。紫外波長的更換快速便捷。200 型是適用于任何入門級掩模對準和紫外曝光應(yīng)用的高靈活性,、經(jīng)濟型解決方案,。

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應(yīng)用領(lǐng)域

微機電系統(tǒng)（MEMS）
納米壓印（NIL）
微流控技術(shù)
納米技術(shù)
II-VI 及 III-V 族器件制造
多層光刻膠處理
液晶顯示器（LCD）和場發(fā)射顯示器（FED）
多芯片模塊（MCM’s）
薄膜器件
太陽能電池
聲表面波器件（SAW devices）

選項

可配備單攝像頭和單屏幕,，或雙攝像頭和雙屏幕（照片中顯示的是雙攝像頭/雙屏幕版本）可加裝用于納米壓?。∟IL）的納米壓印模塊可加裝用于微流控技術(shù)的模塊

特點

占地面積小

真空吸盤

精密對準模塊

可互換的掩模支架和基板吸盤

優(yōu)勢

所需潔凈室空間極小對易碎基板材料的損傷極小對準精度可達1微米可輕松適配多種基板和掩模紅外透明晶圓的背面掩模對準精度可達3-5微米紫外光具有高準直性和均勻性可快速更換紫外光波長曝光強度控制在±2%以內(nèi)可配置為用于納米壓印（NIL）的納米壓印工具可配置微流控模塊

Model 200 紫外掩膜曝光機