反應(yīng)離子蝕刻設(shè)備機(jī)器
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/10/10 10:12:58
- 訪問次數(shù) 281
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顯微鏡,，激光共聚焦,，電鏡，x射線,，激光捕獲顯微切割,，熒光成像系統(tǒng)，DNA/RNA合成儀,，半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備,，生命科學(xué)儀器，光刻機(jī),，
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 石油,地礦,建材,綜合 |
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反應(yīng)離子蝕刻設(shè)備機(jī)器中可以非常精確地控制其蝕刻輪廓,、蝕刻速率和均勻性，並具有重複性,。等向性蝕刻以及非等向性蝕刻都是可能的,。
因此，RIE製程是化學(xué)物理蝕刻製程,，也是半導(dǎo)體製造中用於構(gòu)造各種薄膜的最重要製程,。SYSKEY的系統(tǒng)可以精準(zhǔn)的控制製程氣體與電漿製程，並提供高品質(zhì)的薄膜,。
根據(jù)蝕刻技術(shù)的不同,，等離子體蝕刻技術(shù)可以分為三類：純物理性質(zhì)的沖擊蝕刻、純化學(xué)反應(yīng)的化學(xué)蝕刻和物理化學(xué)反應(yīng)的沖擊蝕刻,。純粹的物理沖擊顯然與濺射物理學(xué)相似，氬元素（Ar）是由電離輝光釋放而成,，利用氬離子的力量,，將氬離子陰極微金屬沖擊在陰極板（晶圓）的位置,，沖擊通過薄薄的頂層，氬離子陷阱蝕刻以再生轟擊,，從而加速其實(shí)現(xiàn)蝕刻目標(biāo),。以這種方式轟擊粒子實(shí)現(xiàn)的蝕刻被稱為具有純物理特性的沖擊蝕刻，因?yàn)樗菍⒓兡芰哭D(zhuǎn)化為物理特性,。物理性質(zhì)的優(yōu)點(diǎn)是激勵波明顯分離加速和強(qiáng)定向,，因此輪廓清晰，轉(zhuǎn)向圈具有良好的寬度和高各向異性,。然而,，通過純粹的物理沖擊實(shí)現(xiàn)蝕刻目標(biāo)的缺點(diǎn)是，當(dāng)要蝕刻的薄膜被蝕刻時,，暴露在等離子體上的金屬涂層也被蝕刻,，導(dǎo)致蝕刻的選擇性比率很差。這是因?yàn)榻饘匐x子也會接觸到涂層基材,，所以刻蝕的終點(diǎn)也需要精密控制,，以避免造成基層的破壞。此外,，由于受沖擊的材料通常是固體顆粒,，這種化合物可以沉積在刻蝕膜的表面和側(cè)壁上，導(dǎo)致涂膜下的材料表面出現(xiàn)材料染色,。
然后通過等離子體擴(kuò)散到未拉伸的薄膜和薄膜層材料的表面化學(xué)反應(yīng)基團(tuán)中,，產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，純化學(xué)反應(yīng),，化學(xué)反應(yīng)中產(chǎn)生的物質(zhì)帶有高度揮發(fā)性,，并隨著未反應(yīng)的物質(zhì)一同被排出反應(yīng)腔體。純化學(xué)反應(yīng)蝕刻和濕法蝕刻一樣,，也有優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn),，如良好的刻蝕選擇性比率、各向同性的蝕刻,、成本低,。
反應(yīng)離子蝕刻設(shè)備機(jī)器參數(shù)
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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| 配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
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