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等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2024/10/10 10:09:01
  • 訪問次數(shù) 242
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等離子刻蝕機(jī)2刻蝕機(jī)

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北京瑞科中儀科技有限公司一家是專門從事數(shù)碼光學(xué)顯微鏡及相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備研發(fā)與銷售的新型高科技公司,也專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,,為高校,、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡,、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī),、等離子清洗機(jī),、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器,以專業(yè)能力導(dǎo)向,,精細(xì)工藝流程,,用科學(xué)手段解決科研中遇到的難題.彼此協(xié)作,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章,。

公司主要產(chǎn)品包括:生物顯微鏡,、金相顯微鏡、偏光顯微鏡,、體視顯微鏡,、數(shù)碼顯微鏡,、顯微鏡數(shù)碼相機(jī)照相接口、顯微鏡*冷光源,、數(shù)碼圖像分析系統(tǒng),、測(cè)量顯微鏡、三座標(biāo)測(cè)量顯微鏡,,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/薄膜生長設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)

公司經(jīng)銷代理品牌包括:蔡司顯微鏡,,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,,徠卡顯微鏡,,國產(chǎn)各廠家顯微鏡, 華粵行 ,,基恩士 ,, 日本電,日立 ,,布魯克,,三和聯(lián), sentech(森泰克),,SYSKEY(矽碁),, PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品 ,天美愛丁堡,,原子光譜,,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品

代理經(jīng)銷的產(chǎn)品種類包括,,熒光顯微鏡,,熒光顯微成像系統(tǒng),激光捕獲顯微切割,,全自動(dòng)切片掃描,,三維超景深顯微系統(tǒng),動(dòng)物超聲系統(tǒng),,3D超景深顯微鏡,,形貌探測(cè)顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,,全自動(dòng)數(shù)字切片掃描,,病理切片掃描,激光切割顯微系統(tǒng),,立體顯微鏡,,國產(chǎn)激光共聚焦顯微鏡,精準(zhǔn)醫(yī)學(xué)顯微切割,激光顯微切割系統(tǒng),,按需搭建顯微系統(tǒng),,熒光光譜儀,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/薄膜生長設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)


公司成立伊始,,即本著“以人為本,,誠信發(fā)展,合作共贏"的企業(yè)宗旨,,快樂中結(jié)識(shí)新朋友,穩(wěn)步中追求新發(fā)展,。目前公司已經(jīng)擁有一支由專業(yè)技術(shù)人員,、營銷人員和維修人員組成的強(qiáng)大隊(duì)伍,竭誠為廣大客戶提供包括技術(shù)咨詢,、產(chǎn)品配套,、安裝調(diào)試、應(yīng)用指導(dǎo),、維護(hù)保養(yǎng)在內(nèi)的整套細(xì)致入微的服務(wù),。同時(shí)公司還依托中國地質(zhì)研究院、清華大學(xué),、中國農(nóng)業(yè)大學(xué),、中科院等科研院所的強(qiáng)大技術(shù)實(shí)力,特聘多名教授,、博士作為我公司提供多方面的技術(shù)支持,。

公司儲(chǔ)備各顯微鏡現(xiàn)貨,只要您有需求,,我們就能隨時(shí)為您提供各種產(chǎn)品選配服務(wù),。公司管理層、營銷隊(duì)伍和技術(shù)人員都具備多年的專業(yè)技術(shù)經(jīng)驗(yàn),,相信我們的質(zhì)量和服務(wù)一定是顯微光學(xué)領(lǐng)域中無法可比的,。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專業(yè)的人員,過硬的技術(shù),,優(yōu)秀的產(chǎn)品"精神,,為您提供專業(yè)、及時(shí),、周到的技術(shù)服務(wù),,北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴的伙伴!












顯微鏡,激光共聚焦,,電鏡,,x射線,激光捕獲顯微切割,熒光成像系統(tǒng),,DNA/RNA合成儀,,半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備,生命科學(xué)儀器,,光刻機(jī),,

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),地礦,制藥,綜合

低成本效益高

等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200結(jié)合平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接置片。

升級(jí)擴(kuò)展性

根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì),,等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200可升級(jí)為更大的真空泵組,,預(yù)真空室和更多的氣路。

SENTECH控制軟件

等離子刻蝕機(jī)配備了用戶友好的強(qiáng)大軟件,,具有模擬圖形用戶界面,,參數(shù)窗口,工藝編輯窗口,,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理,。

代表了直接置片家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn),。Etchlab 200的特征是簡單和快速的樣品加載,,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性,、模塊性和占地面積小是Etchlab 200 的設(shè)計(jì)特點(diǎn),。位于頂部電極和反應(yīng)腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進(jìn)行原位監(jiān)測(cè),。

Etchlab 200等離子蝕刻機(jī)可以配置成用于刻蝕直接加載的材料,,包括但不限于硅和硅化合物,化合物半導(dǎo)體,,介質(zhì)和金屬,。

Etchlab 200通過的SENTECH控制軟件操作,使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù)和用戶友好的通用用戶界面,。

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主要基于等離子體的產(chǎn)生和應(yīng)用,,其詳細(xì)原理可以歸納如下:### 一、等離子體產(chǎn)生* **氣體引入與電離**:在Etchlab 200等離子蝕刻機(jī)中,,首先會(huì)向真空室內(nèi)引入適量的氣體(如氧氣,、氟氣等),這些氣體在高頻電場的作用下被電離,,形成等離子體,。等離子體是由部分離化的中性氣體組成,其中包含離子,、電子,、原子和活性基團(tuán)等“活性”組分。* **加速過程**:產(chǎn)生的等離子體隨后被加速器加速,使其具有足夠的能量來撞擊材料表面,。### 二,、刻蝕過程* **物理刻蝕**:加速后的等離子體以高速撞擊材料表面,通過物理碰撞將表面的原子或分子擊出,,這個(gè)過程稱為物理刻蝕,。* **化學(xué)刻蝕**:同時(shí),等離子體中的活性組分(如離子,、自由基等)與材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),,進(jìn)一步促進(jìn)刻蝕過程。這些化學(xué)反應(yīng)可能包括氧化,、還原,、置換等,具體取決于所使用的氣體種類和材料性質(zhì),。### 三、刻蝕產(chǎn)物移除* 刻蝕過程中產(chǎn)生的產(chǎn)物會(huì)附著在材料表面,,為了保持刻蝕的連續(xù)性和精度,,需要將這些產(chǎn)物及時(shí)移除。Etchlab 200等離子蝕刻機(jī)通過引入適量的氣體(如惰性氣體)與刻蝕產(chǎn)物反應(yīng),,形成易揮發(fā)的化合物,,從而將刻蝕產(chǎn)物帶走。### 四,、控制系統(tǒng)* Etchlab 200等離子蝕刻機(jī)配備了先進(jìn)的控制系統(tǒng),,可以調(diào)整等離子體的能量、氣體流量等參數(shù),,以精確控制刻蝕過程的速率和精度,。此外,該系統(tǒng)還具備模擬圖形用戶界面,、參數(shù)窗口,、工藝編輯窗口等功能,方便用戶進(jìn)行工藝設(shè)置和監(jiān)控,。### 五,、應(yīng)用特點(diǎn)* **高精度**:由于等離子體的高能量和精確控制,Etchlab 200能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的微細(xì)結(jié)構(gòu)制造和加工





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