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進(jìn)口深硅刻蝕

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2024/10/10 9:56:23
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 186
產(chǎn)品標(biāo)簽

進(jìn)口深硅刻蝕刻蝕機(jī)

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北京瑞科中儀科技有限公司一家是專(zhuān)門(mén)從事數(shù)碼光學(xué)顯微鏡及相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備研發(fā)與銷(xiāo)售的新型高科技公司,也專(zhuān)注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷(xiāo)和代理,,為高校,、企業(yè)科研工作者提供專(zhuān)業(yè)的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷(xiāo)售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡,、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī),、等離子清洗機(jī),、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器,以專(zhuān)業(yè)能力導(dǎo)向,,精細(xì)工藝流程,,用科學(xué)手段解決科研中遇到的難題.彼此協(xié)作,為我國(guó)的科研領(lǐng)域譜寫(xiě)新篇章,。

公司主要產(chǎn)品包括:生物顯微鏡,、金相顯微鏡、偏光顯微鏡,、體視顯微鏡,、數(shù)碼顯微鏡,、顯微鏡數(shù)碼相機(jī)照相接口、顯微鏡*冷光源,、數(shù)碼圖像分析系統(tǒng),、測(cè)量顯微鏡、三座標(biāo)測(cè)量顯微鏡,,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)

公司經(jīng)銷(xiāo)代理品牌包括:蔡司顯微鏡,,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,,徠卡顯微鏡,,國(guó)產(chǎn)各廠家顯微鏡, 華粵行 ,,基恩士 ,, 日本電,日立 ,,布魯克,,三和聯(lián), sentech(森泰克),,SYSKEY(矽碁),, PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品 ,天美愛(ài)丁堡,,原子光譜,,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品

代理經(jīng)銷(xiāo)的產(chǎn)品種類(lèi)包括,,熒光顯微鏡,,熒光顯微成像系統(tǒng),激光捕獲顯微切割,,全自動(dòng)切片掃描,,三維超景深顯微系統(tǒng),動(dòng)物超聲系統(tǒng),,3D超景深顯微鏡,,形貌探測(cè)顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,,全自動(dòng)數(shù)字切片掃描,,病理切片掃描,激光切割顯微系統(tǒng),,立體顯微鏡,,國(guó)產(chǎn)激光共聚焦顯微鏡,精準(zhǔn)醫(yī)學(xué)顯微切割,,激光顯微切割系統(tǒng),,按需搭建顯微系統(tǒng),,熒光光譜儀,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)


公司成立伊始,,即本著“以人為本,,誠(chéng)信發(fā)展,合作共贏"的企業(yè)宗旨,,快樂(lè)中結(jié)識(shí)新朋友,,穩(wěn)步中追求新發(fā)展。目前公司已經(jīng)擁有一支由專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員,、營(yíng)銷(xiāo)人員和維修人員組成的強(qiáng)大隊(duì)伍,,竭誠(chéng)為廣大客戶(hù)提供包括技術(shù)咨詢(xún),、產(chǎn)品配套,、安裝調(diào)試、應(yīng)用指導(dǎo),、維護(hù)保養(yǎng)在內(nèi)的整套細(xì)致入微的服務(wù),。同時(shí)公司還依托中國(guó)地質(zhì)研究院、清華大學(xué),、中國(guó)農(nóng)業(yè)大學(xué),、中科院等科研院所的強(qiáng)大技術(shù)實(shí)力,特聘多名教授,、博士作為我公司提供多方面的技術(shù)支持,。

公司儲(chǔ)備各顯微鏡現(xiàn)貨,只要您有需求,,我們就能隨時(shí)為您提供各種產(chǎn)品選配服務(wù),。公司管理層、營(yíng)銷(xiāo)隊(duì)伍和技術(shù)人員都具備多年的專(zhuān)業(yè)技術(shù)經(jīng)驗(yàn),,相信我們的質(zhì)量和服務(wù)一定是顯微光學(xué)領(lǐng)域中無(wú)法可比的,。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專(zhuān)業(yè)的人員,過(guò)硬的技術(shù),,優(yōu)秀的產(chǎn)品"精神,,為您提供專(zhuān)業(yè)、及時(shí),、周到的技術(shù)服務(wù),,北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴(lài)的伙伴!












顯微鏡,激光共聚焦,,電鏡,,x射線(xiàn),激光捕獲顯微切割,,熒光成像系統(tǒng),,DNA/RNA合成儀,,半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備,生命科學(xué)儀器,,光刻機(jī),,

產(chǎn)地類(lèi)別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,食品,化工,農(nóng)業(yè),制藥

進(jìn)口深硅刻蝕介紹:

低損傷刻蝕

由于離子能量低,離子能量分布帶寬窄,,因此可以用我們的等離子體刻蝕機(jī)SI 500進(jìn)行低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)的刻蝕,。

高速刻蝕

對(duì)于具有高深寬比的高速硅基MEMS刻蝕,光滑的側(cè)壁可以通過(guò)室溫下氣體切換工藝或低溫工藝即可很容易地實(shí)現(xiàn),。

進(jìn)口深硅刻蝕特點(diǎn):

三螺旋平行板天線(xiàn)(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性,。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能,,非常適用于加工各種材料和結(jié)構(gòu),。

動(dòng)態(tài)溫度控制:

在等離子體刻蝕過(guò)程中,襯底溫度的設(shè)定和穩(wěn)定性對(duì)于實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量蝕刻起著至關(guān)重要的作用,。動(dòng)態(tài)溫度控制的ICP襯底電極結(jié)合氦氣背冷和基板背面溫度傳感,,可在-150°C至+400°C的廣泛溫度范圍內(nèi)提供了優(yōu)良的工藝條件。

SI 500為研發(fā)和生產(chǎn)提供的電感耦合等離子體(ICP)工藝設(shè)備,。它基于ICP等離子體源PTSA,,動(dòng)態(tài)溫度控制的襯底電極,全自動(dòng)控制的真空系統(tǒng),,使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線(xiàn)技術(shù)的的SETECH控制軟件和用于操作SI 500的用戶(hù)友好的通用接口,。靈活性和模塊化是SI 500主要的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。

SI 500 ICP等離子刻蝕機(jī),,可以用于加工各種各樣的襯底,,從直徑高達(dá)200 mm的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預(yù)真空室保證穩(wěn)定的工藝條件,,并且切換工藝非常容易,。

SI 500 ICP等離子刻蝕機(jī),通過(guò)配置可用于刻蝕不同材料,,包括但不于例如三五族化合物半導(dǎo)體(GaAs, InP, GaN, InSb),,介質(zhì),石英,,玻璃,,硅和硅化合物(SiC, SiGe),還有金屬等。

SENTECH提供用戶(hù)不同級(jí)別的自動(dòng)化程度,,從真空片盒載片到一個(gè)工藝腔室到六個(gè)工藝模塊端口,,可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng),目標(biāo)是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 500 ICP等離子刻蝕機(jī)也可用作多腔系統(tǒng)中的工藝模塊,。






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