RIE等離子刻蝕機
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 SENTECH
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2024/10/10 9:52:10
- 訪問次數(shù) 283
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顯微鏡,,激光共聚焦,,電鏡,x射線,,激光捕獲顯微切割,,熒光成像系統(tǒng),DNA/RNA合成儀,,半導體行業(yè)儀器設備,,生命科學儀器,光刻機,,
產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領域 | 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè),制藥,綜合 |
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RIE等離子刻蝕機
低成本效益高
RIE等離子蝕刻機Etchlab 200結合平行板等離子體源設計與直接置片,。
升級擴展性
根據(jù)其模塊化設計,等離子蝕刻機Etchlab 200可升級為更大的真空泵組,,預真空室和更多的氣路,。
SENTECH控制軟件
該等離子刻蝕機配備了用戶友好的強大軟件,具有模擬圖形用戶界面,,參數(shù)窗口,,工藝編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理,。
Etchlab 200 RIE等離子刻蝕機代表了直接置片等離子刻蝕機家族,,它結合了RIE的平行板電極設計和直接置片的成本效益設計的優(yōu)點。Etchlab 200的特征是簡單和快速的樣品加載,,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上,。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab 200 的設計特點,。位于頂部電極和反應腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng),。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進行原位監(jiān)測。
Etchlab 200等離子蝕刻機可以配置成用于刻蝕直接加載的材料,,包括但不限于硅和硅化合物,,化合物半導體,介質和金屬,。
Etchlab 200通過的SENTECH控制軟件操作,,使用遠程現(xiàn)場總線技術和用戶友好的通用用戶界面。