iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測試儀

　　我公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀（含能量色散和波長色散型）（XRF）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP）,、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS),、原子熒光光譜儀（AFS）、原子吸收分光光度計（AAS）,、光電直讀光譜儀（OES）,、氣相色譜儀（GC）、氣相質(zhì)譜儀（GC-MS）,、液相色譜儀（LC）,、液相質(zhì)譜儀（LC-MS）、能譜儀（EDS）,、高頻紅外碳硫分析儀（CS）,、礦漿載流在線采樣儀（OSA）等。

　　應(yīng)用領(lǐng)域

　　分析各種電鍍鍍層厚度

　　技術(shù)指標(biāo)

　　多鍍層分析,，1～5層,；

　　測試精度：0.001μm；

　　元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U),；

　　測量時間：10~30秒,；

　　SDD探測器，能量分辨率為125±5eV,；

　　探測器Be窗0.5mil（12.7μm）,；

　　微焦X射線管50kV/1mA，鉬,，銠靶（高配微焦鉬靶）,；

　　6個準(zhǔn)直器及多個濾光片自動切換；

　　高清CCD攝像頭（200萬像素）,，準(zhǔn)確監(jiān)控位置,；

　　多變量非線性去卷積曲線擬合；

　　高性能FP/MLSQ分析,；

　　軟件支持無標(biāo)樣分析,；

　　寬大分析平臺和樣品腔；

　　集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面,；

　　采用多種光譜擬合分析處理技術(shù),；

　　鍍層測厚分析可達到0.001μm。

　　單層厚度范圍：

　　金鍍層0－8um,

　　鉻鍍層0-15um,

　　其余一般為0-30um以內(nèi)，

　　可最小測量達0.001um,。

　　2.3,、多層厚度范圍

　　Au/Ni/Cu:Au分析厚度:0-8umNi分析厚度:0-30um

　　Sn/Ni/Cu:Sn分析厚度:0-30umNi分析厚度:0-30um

　　Cr/Ni/Fe:Cr分析厚度0-15umNi分析厚度:0-30um

　　2.4、鍍層層數(shù)為1-6層

　　2.5,、鍍層精度相對差值一般<5%,。

　　2.6、鍍層成分含量：Sn-Pb合金成分分析,；Zn-Ni合金成分分析,。

　　單層分析精度，以Ni舉例：（相對差值）

　　Ni層厚度(um)

　　保證精度

　　<1.0um

　　<5%

　　1.0-5.0um

　　<3%

　　5.0-10um

　　<3%

　　10-20um

　　<3%

　　>20.0um

　　<3%

　　分析報告結(jié)果

　　直接打印分析報告,；

　　報告可轉(zhuǎn)換為PDF,，EXCEL格式。

　　iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測試儀