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PLUTO-M等離子清洗機/處理機

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 武漢賽斯特精密儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產地 江岸區(qū)興業(yè)路136號工業(yè)廠房(二期)1棟12層車間1
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2021/6/22 15:34:35
  • 訪問次數 641

聯(lián)系方式:左斌斌查看聯(lián)系方式

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,,謝謝!


  武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā),以力學試驗機儀器為主,,同時銷售各種,、中低端分析儀器?,F(xiàn)有員工60多人,公司成功開發(fā)了PCI放大采集卡和中文版試驗軟件,,并采用全數字化,,操作簡捷,*符合GB,、ISO,、JIS、ASTM,、DIN等標準,、國家標準、行業(yè)標準的要求,,公司亦通過了ISO9001質量體系認證和國家計量體系認證,,榮獲了“武漢市第九界消費者滿意單位”的稱號。
  產品廣泛應用于電子,、高校,、政府研究機構、環(huán)保機構,、石油化工,、紡織制造、第三方檢測機構,、*別研究院,、新能源、集成電路,、芯片,、封裝測試、半導體行業(yè),、顯示器領域,、光電材料、鋰電池,、機械生產等領域,。并與武漢理工大學、華中科技大學等建立了長期合作,,每年投入大量研究經費,,招攬各方優(yōu)秀的技術人才加盟突破國內技術壁壘,不斷攻克新的技術難題,,另外公司還積極拓展海外業(yè)務,,產品遠銷越南,印度,,埃及等國家和地區(qū),。
  本著“專業(yè)品質,,專業(yè)服務”為宗旨,以“科技,、品質,、競爭、創(chuàng)新”為理念,,通過不斷汲取新的技術,,新的理念,繼續(xù)開發(fā)研制新產品,,并為廣大客戶提供優(yōu)質的售前,,售中,售后服務,。熱烈歡迎廣大新老朋友業(yè)函,,來電,蒞臨我公司參觀指導,!


 

實驗室檢測儀器,,測試儀器設備等

應用領域 環(huán)保,生物產業(yè),能源,電子

PLUTO-M等離子清洗機/處理機

產品特點:

等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,同時具備物理清洗和化學清洗能力,。

電源功率為200W,,覆蓋常規(guī)處理需求

創(chuàng)新設計,可調整電極之間距離,,調整等離子體濃度和強度,,大提升處理效率和能力

真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼,電極6061航空鋁合金,,配件材質精良,,保證設備穩(wěn)定高效運行

樣品處理面積可達125mm(大處理面積可達200mm,如有需求請咨詢銷售人員)

4.3寸工業(yè)級觸摸屏,,操作簡單,,可設置多種實驗參數

性能穩(wěn)定可靠,質量穩(wěn)定,,自主研發(fā),售后有保障

PLUTO-M等離子清洗機/處理機

產品參數:

1. 真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L

2. 電極:兩個自適應平板電極,,材質T6061鋁合金

3. 電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm 可調

4. 等離子體發(fā)生器:RF射頻發(fā)生器,,頻率:13.56MHz

5. 功率:0-200W連續(xù)可調,精度1W

6. 氣體控制:針式氣體流量閥,,標配1路氣體

7. 控制方式:4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

控制軟件功能:界面顯示實時工作狀態(tài),,

可顯示設置值與實際值,便于實時控制,。

可自由設置等離子功率,,通入氣體時間

全手動控制和全自動控制可選

8. 保護裝置:一鍵急停保護按鈕

等離子體表面處理系統(tǒng)Pluto-M?參數(標準配置)

外部尺寸

404*640*515mm

 

真空腔尺寸

直徑210mm*230mm

不銹鋼腔體

電極尺寸

125*125mm

多空自適應平板電極

等離子體發(fā)生器

RF射頻發(fā)生器,,頻率:13.56MHz

自適應阻抗匹配電源

功率

0-200W連續(xù)可調

精度1W

真空計

熱電偶真空計 0-1000mT

 

供氣

1路氣體

6mm國標連接件(軟管)

控制方式

4.3寸觸摸屏

 

可 選 配 置

ALC

純鋁腔體

 

RF-300

等離子體發(fā)生器

頻率13.56MHz ,0-300W自動阻抗匹配電源

可調電極

可調節(jié)電極間距

電極間距20-60mm可調,,改變等離子體場濃度特性

CM裝置

沉積鍍膜模塊

用于改變表面特性:

1.    沉積CF材料,,樣品表面可以具有憎水的特性

2.    沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性

3.    沉積含有羥基的材料,,提高樣品表面和其他材料的結合效果,。

GP裝置

氣體純化裝置

 

PPU

粉體處理裝置

用于處理微納米級別顆粒

 

氣體收集裝置

用于收集等離子體化學反應后的氣體

 

小型氧氣發(fā)生器

用于制備氧氣,可取代氧氣罐

 

氣體混合裝置

可以根據可以要求進行混氣設計

 

感應耦合模塊

感應耦合等離子體裝置

 

加熱電極模塊

電極可以加熱,,室溫~200度可調,。

 

光譜儀模塊

可以增加光譜儀的接口,檢測等離子體光譜變化

 

電極轉換模塊

可以自由變換電極設計,,樣品可以放在射頻電極上,,也可以放在地電極上。從而實現(xiàn)不同的處理效果,。



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