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AZ P4620 AZ4562 AZ正性光刻膠

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

正性光刻膠AZ光刻膠厚膜光刻膠

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武漢市洪山區(qū)萊博茲科學(xué)儀器經(jīng)營(yíng)部成立于2020年09月22日,,注冊(cè)地位于武漢市洪山區(qū)珞珈山大廈主樓15層1506室,,法定代表人為高珍珍,。經(jīng)營(yíng)范圍包括網(wǎng)上銷(xiāo)售:教學(xué)儀器儀表、五金產(chǎn)品,、金屬結(jié)構(gòu)產(chǎn)品,、辦公用品、計(jì)算機(jī)及輔助設(shè)備,、實(shí)驗(yàn)室化學(xué)試劑(不含有毒有害易燃易爆危險(xiǎn)品),、實(shí)驗(yàn)室用品、塑料制品,、實(shí)驗(yàn)室耗材,;教學(xué)儀器儀表技術(shù)咨詢服務(wù)。(涉及許可經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目,,應(yīng)取得相關(guān)部門(mén)許可后方可經(jīng)營(yíng))



教學(xué)儀器儀表,,實(shí)驗(yàn)室化學(xué)試劑,實(shí)驗(yàn)室用品耗材

供貨周期 一個(gè)月以上 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,能源

 AZ P4620 正性光刻膠
超厚膜,,高對(duì)比度,,高感光度正型光刻膠,適用于半導(dǎo)體制造及GMR磁頭制造,。

特征:
 

1)高對(duì)比度,,高感光度
2)高附著性,對(duì)電鍍工藝高耐受性
3)多種粘度可供選擇


參考工藝條件
前烘 :100℃ 60秒 (DHP)
曝光 :G線步進(jìn)式曝光機(jī)/接觸式曝光機(jī)
顯影 :AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒
清洗 :去離子水30秒
后烘 :120℃ 60秒 (DHP)
剝離 :AZ剝離液及/或氧等離子體灰化

預(yù)處理:烘涂粘附劑
旋涂:4000rad/min 30s
前烘: 110℃ 120-180s
曝光:熒光光源20-25s
顯影:25%TMAH:H2O=1:7  40-60s
堅(jiān)膜: 120℃  120s

 

 AZ 5214 E 圖像反轉(zhuǎn)光刻膠 
這種特殊的光刻膠用于需要負(fù)壁輪廓的剝離技術(shù),。由酚醛清漆樹(shù)脂和萘醌二疊氮化物作為光敏化合物(PAC)組成的正性光致抗蝕劑,,它們也能夠反轉(zhuǎn)圖像(IR),從而產(chǎn)生的掩模,。


特 征
1)高分辨率,,耐刻蝕,垂直性好
2)可反轉(zhuǎn)成負(fù)膠
3)做lift-of工藝
4)制作電極
5)旋涂厚度從0.5到6μm

 

AZ®4500系列

具有粘附力的厚光刻膠

特點(diǎn):

AZ ® 4500系列AZ ® 4533AZ ® 4562)是正性厚光刻膠,,在普通濕法蝕刻和電鍍工藝中具有優(yōu)良的粘附性能:

l  優(yōu)化對(duì)所有常見(jiàn)基材的附著力

l  寬廣的工藝參數(shù)窗口,,可實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定且可重復(fù)的光刻工藝

l  與所有常見(jiàn)的顯影液兼容(基于KOHTMAH

l  與所有常見(jiàn)的去膠劑兼容(例如AZ100去膠劑、有機(jī)溶劑或堿性溶劑)

l  對(duì)g,,hi線敏感(約320-440 nm

l  光刻膠厚度范圍約 3-30微米

AZ ® 4500系列AZ ® 4533AZ ® 4562)的溶劑濃度不同,,可達(dá)到的光刻膠膜厚有較大的范圍:

光刻膠型號(hào)

光刻膠膜厚范圍

包裝規(guī)格

AZ ® 4533

轉(zhuǎn)速為4000 rpm時(shí),膜厚約為3.3 µm,;通過(guò)改變轉(zhuǎn)速,,膜后可達(dá)2.5-5 µm

多規(guī)格包裝,,如1L,、2.5L

AZ ® 4562

轉(zhuǎn)速為4000 rpm時(shí),膜厚約為3.3 µm;通過(guò)改變轉(zhuǎn)速,,膜后可達(dá)4.5-10 µm,;調(diào)整旋轉(zhuǎn)輪廓(中等旋涂速度下短時(shí)間旋涂),可達(dá)30 µm膜厚,。

多規(guī)格包裝,,如1L2.5L



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