RAITH多功能電子束曝光系統(tǒng)eLINE Plus

多功能電子束曝光系統(tǒng)

探索超越電子束曝光功能的納米工程系統(tǒng)

超高分辨電子束曝光,、成像及納米工程系統(tǒng)

納米加工領域的瑞士

多用途的納米光刻系統(tǒng)

eLINE Plus被廣泛用于大學和研究中心,，該系統(tǒng)有很多多功能附件可供用戶選擇，滿足用戶對電子束光刻機多功能性的要求,。

除具有專業(yè)的電子束光刻及成像功能,，eLINE Plus還完美集成了納米操縱設備，如納米探針,、用于聚焦電子束誘導過程的氣體注入系統(tǒng)等各種多功能選件,，這使得eLINE Plus成為世界上*的、用途廣泛的電子束光刻系統(tǒng),。

納米工程,、納米操縱，及聚焦電子束誘導過程

• 先進的熱場發(fā)射電子光學柱,，可得到的小束斑尺寸
• 開放的可升級的平臺理念
• 廣泛的納米加工工藝
• 多種探測器,，可靈活地實現對準標記識別、成像,，及材料分析方面的應用
• *的無寫場拼接的直寫模式（traxx /periodixx）
• Raith NanoSuite軟件: 集所有模塊于一體的綜合軟件界面

可擴展的科研工具理念

eLINE Plus具有模塊可擴展的科研工具理念,，用戶可任意時間升級各種模塊,，使該系統(tǒng)適用于納米研究中熱門的研究方向。eLINE Plus從傳統(tǒng)的電子束應用領域,，擴展成為多功能的系統(tǒng),，打開了跨學科研究的大門。

eLINE Plus具有的小束斑尺寸（1.6nm）,在前沿的高分辨納米加工中,，不論是納米曝光還是其他聚焦電子束誘導過程中都展現出的優(yōu)異性能,。

eLINE Plus 納米曝光應用

• HSQ膠上制作亞5nm線條

• 高密度器件：1kB交叉型阻變式存儲器

• 通過鉆蝕工藝獲得光子晶體隔膜器件
• 金屬橫向自旋閥

• 納米光柵實現的神經突導航功能

eLINE Plus 納米工程應用

• 采用電子束誘導沉積功能生長金電極，在金電極上沉積懸空的Pt納米線,，并采用探針進行納米線探測

• 電子束誘導沉積結構,，采用輪廓儀探針進行材料生長速率的測量

• 電子束誘導沉積生長三維納米結構
• 采用能量選擇inLens背散射電子探測器探測材料對比度

eLINE Plus 產品詳情