阿瑞斯-µVOC AMC空氣分子污染物ppb級(jí)VOC監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
參考價(jià) | ¥ 9999 |
訂貨量 | ≥1臺(tái) |
- 公司名稱 北京杜克泰克科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) 阿瑞斯-µVOC
- 產(chǎn)地 中國(guó)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/1/14 9:42:11
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,農(nóng)林牧漁,石油,能源 |
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AMC空氣分子污染物ppb級(jí)VOC監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
一、AMC空氣分子污染物ppb級(jí)VOC監(jiān)測(cè)系統(tǒng)介紹:
醋酸,、草酸 ,、胺類、N-甲基吡咯烷酮(NMP),、六甲基二硅胺烷(HMDS),、鄰苯二甲酸二辛酯(DOP)、鄰苯二甲酸二丁酯(DBP),、鄰苯二甲酸二乙酯(DEP),、異丙醇、丙酮,、硼酸*酯,、二甲苯、磷酸三乙酯---等其他有機(jī)物
空氣分子污染物 (AMC) 對(duì)于高科技生產(chǎn)過(guò)程是關(guān)鍵性因素,,特別是微電子行業(yè),,有機(jī)污染物是生產(chǎn)過(guò)程中的消極因素,會(huì)導(dǎo)致高科技公司因產(chǎn)品質(zhì)量問(wèn)題而產(chǎn)生的成本增加,。
無(wú)空氣分子污染物生產(chǎn)是理想的生產(chǎn)目標(biāo),,通過(guò)污染物源頭控制、傳播控制,,實(shí)時(shí)監(jiān)控污染物濃度并結(jié)合多級(jí)過(guò)濾器以及新風(fēng)系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn),,持久監(jiān)測(cè)AMC濃度,有助于掌握污染物源頭,、穩(wěn)定生產(chǎn),、預(yù)防過(guò)濾器突發(fā)性壽命減少等,。
uVOC-CAM提供給客戶一個(gè)實(shí)時(shí)快捷持續(xù)的在線空氣分子污染物AMC監(jiān)測(cè)方案,不需要采樣,,離線測(cè)量,。
關(guān)鍵詞:AMC監(jiān)測(cè),AMC在線監(jiān)測(cè),,AMC在線檢測(cè),,空氣分子污染物監(jiān)測(cè),半導(dǎo)體潔凈室氣體分析儀
二,、阿瑞斯-µ VOCppb級(jí)VOC監(jiān)測(cè)系統(tǒng)產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):
檢測(cè)限達(dá)到sub-ppb級(jí)
潔凈室環(huán)境中的空氣分子污染物AMC,,內(nèi)部來(lái)自建筑材料釋出、設(shè)備和材料釋出,、腐蝕和光刻等工藝過(guò)程中化學(xué)藥品逸散,、人員產(chǎn)生、管路泄露,、設(shè)備維護(hù)修理時(shí)散發(fā)等,,外部來(lái)自環(huán)境空氣中存在的氣相污染物,以及潔凈室的廢氣排放重新送回潔凈室,。
一旦AMC空氣分子污染物超標(biāo)會(huì)引起一系列嚴(yán)重后果,,比如晶圓廢棄、停產(chǎn),、重新凈化潔凈室等。
空氣分子污染物問(wèn)題:從潔凈間到生產(chǎn)機(jī)臺(tái)加工
隨著IC產(chǎn)品生產(chǎn)成本的增加,,空氣分子污染物AMC的監(jiān)測(cè)變得越來(lái)越重要,。
污染物從加工到超凈間的擴(kuò)散,并且成份的增加,,分子污染物來(lái)自多個(gè)源頭,,比如生產(chǎn)化學(xué)藥劑、建筑材料,、潔凈間設(shè)備裝置,、操作人員等。
µ-VOC 系統(tǒng)意味著潛在鑒別空氣分子污染物與產(chǎn)生污染問(wèn)題和減少污染問(wèn)題之間的關(guān)聯(lián),,完整的全量程全組份實(shí)時(shí)sub-ppb級(jí)測(cè)量,,提供早期AMC監(jiān)測(cè)和快速確定這些污染問(wèn)題的原因。
三,、阿瑞斯-µ VOCppb級(jí)VOC監(jiān)測(cè)系統(tǒng)亮點(diǎn)
一般特點(diǎn)
在線連續(xù)質(zhì)量監(jiān)測(cè)全部自動(dòng)化系統(tǒng)
低濃度VOC監(jiān)測(cè)
獨(dú)立分開(kāi)測(cè)量有機(jī)物成份
Sub-ppb檢測(cè)限
集成計(jì)算機(jī)和控制軟件以及數(shù)據(jù)采集與處理功能,。
四、應(yīng)用
潔凈間污染物監(jiān)測(cè)
過(guò)濾器狀態(tài)監(jiān)測(cè)
加工過(guò)程全組份測(cè)量診斷污染物
通過(guò)成份形成跟蹤污染物源頭
許多生產(chǎn)過(guò)程化學(xué)藥劑成為污染物的源頭,,NH3因光刻工藝過(guò)程而較為著名,。六甲基二硅胺烷(HMDS)又分解成*基硅醇和NH3,,等等很多類似的化學(xué)藥劑的分解與釋放,都造成AMC的增加,。而實(shí)時(shí)迅速測(cè)量這些成份濃度的µ-VOC 系統(tǒng)可以跟蹤污染物形成的時(shí)間和路線,。
五、工作原理
GC氣相色譜是分離多種復(fù)雜混合物常用的技術(shù),,這種技術(shù)依賴于揮發(fā)性有機(jī)混合氣體在色譜柱的多組份分離,。
當(dāng)不同的揮發(fā)性有機(jī)物從色譜柱分離出來(lái)后通過(guò)氫氣/空氣火焰離子檢測(cè)器探測(cè)電導(dǎo)率的變化,從而確定不同組份的濃度,,*的吹掃和載氣系統(tǒng)可使儀器達(dá)到sub-ppb檢測(cè)限,。
該廠商的其他產(chǎn)品
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