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NanoX-2000/3000 輪廓儀——表面粗糙度,、表面輪廓、臺(tái)階高度

參考價(jià) 13
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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岱美有限公司(下面簡(jiǎn)稱岱美)成立于1989年,,是一間擁有多年經(jīng)驗(yàn)的性高科技設(shè)備分銷商,,主要為半導(dǎo)體、MEMs,、光通訊,、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、高校及研發(fā)中心提供各類測(cè)量設(shè)備,、工序設(shè)備以及相應(yīng)的技術(shù)支持,,并與一些重要的客戶建立了*合作的關(guān)系。

自1989年創(chuàng)立至今,,岱美的產(chǎn)品以及各類服務(wù),、解決方案廣泛地運(yùn)用于中國(guó)大陸、香港,、中國(guó)臺(tái)灣,、新加坡、泰國(guó),、馬來西亞,、菲律賓等地區(qū)。
主要產(chǎn)品包括有:EVG晶圓鍵合設(shè)備,、EVG納米壓印設(shè)備,、EVG紫外光刻機(jī)、EVG涂膠顯影機(jī),、EVG硅片清洗機(jī),、EVG超薄晶圓處理設(shè)備,、壓力計(jì)、流量計(jì),、等離子電源,、非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x、薄膜厚度檢測(cè)儀,、電容式位移傳感器,、振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì) (VSM)、粗糙度檢測(cè)儀,、電鏡 (SEM),、透鏡 (TEM)、原子力顯微鏡 (AFM),、防振臺(tái)系統(tǒng),、三維原子探針材料分析儀 (Atom Probe)、激光干涉儀,、平面/球面大口徑動(dòng)態(tài)激光干涉儀,、氦質(zhì)譜檢漏儀、紫外線固化儀,、碳納米管生長(zhǎng)設(shè)備等,。
岱美中國(guó)擁有八十多名訓(xùn)練有素的工程師,能夠?yàn)楦鞯貐^(qū)用戶作出快捷,、可靠的技術(shù)支持和維修服務(wù),;為確保他們的專業(yè)知識(shí)得以更新及并適應(yīng)新的要求,岱美定期委派工程師前往海外接受專項(xiàng)技術(shù)訓(xùn)練,,務(wù)求為顧客提供更高質(zhì)素的售后服務(wù)及技術(shù)支持,。
總部位于中國(guó)香港的岱美分別在新加坡、泰國(guó),、中國(guó)臺(tái)灣、馬來西亞,、菲律賓及中國(guó)大陸(上海,、東莞及北京)設(shè)立了分公司及辦事處,以帶給客戶更快捷更的銷售及維修服務(wù),。
我們真誠(chéng)希望和業(yè)界的用戶互相合作,,共同發(fā)展!,!
     

膜厚測(cè)量?jī)x,、隔震臺(tái)、磁強(qiáng)計(jì)

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 產(chǎn)品種類 非接觸式輪廓儀/粗糙度儀
價(jià)格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子,航天,電氣

*代理商——岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司

 

 

 

 

Subnano 輪廓儀

Subnano 輪廓儀

  

 

 

 

 

 

NanoX-2000/3000系列,、3D光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI),、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測(cè)量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上,,以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測(cè)件的表面粗糙度、表面輪廓,、臺(tái)階高度,、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造,、MEMS,、航空航天、精密加工,、表面工程技術(shù),、材料、太陽(yáng)能電池技術(shù)等領(lǐng)域,。

 

 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

  

美國(guó)硅谷研發(fā)的核心技術(shù)和系統(tǒng)軟件

  關(guān)鍵硬件采用美國(guó),、德國(guó)、日本等

  PI納米移動(dòng)平臺(tái)及控制系統(tǒng)

  Nikon干涉物鏡

  NI信號(hào)控制板和Labview64 控制軟件

  TMC光學(xué)隔振臺(tái)

  測(cè)量準(zhǔn)確度重復(fù)性達(dá)到shijie*水平(中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院證書)

輪廓儀——表面粗糙度,、表面輪廓,、臺(tái)階高度測(cè)量參數(shù)

 

產(chǎn)品參數(shù):

 

測(cè)量模式        移相干涉(PSI),白光垂直掃描干涉(VSI),,單色光垂直掃描干涉(CSI

臺(tái)        150mm/200mm/300mm樣品臺(tái)(可選配)

                    XY平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,,傾斜:±5°

                    可選手動(dòng)/電動(dòng)樣品臺(tái)

CCD相機(jī)像素    標(biāo)配:1280×960

視場(chǎng)范圍        560×750um10×物鏡)

                    具體視場(chǎng)范圍取決于所配物鏡及CCD相機(jī)

光學(xué)系統(tǒng)        同軸照明無限遠(yuǎn)干涉成像系統(tǒng)

            高效LED

Z方向聚焦      80mm手動(dòng)聚焦(可選電動(dòng)聚焦)

       n  Z方向掃描范圍  精密PZT掃描(可選擇高精密機(jī)械掃描,拓展達(dá)10mm )

縱向分辨率      0.1nm

RMS重復(fù)性*     0.005nm,,

臺(tái)階測(cè)量**              準(zhǔn)確度 ≤0.75%,;重復(fù)性 ≤0.1%

橫向分辨率              ≥0.35um100物鏡)

檢測(cè)速度                   ≤ 35um/sec , 與所選的CCD和掃描模式有關(guān)

 

輪廓儀——表面粗糙度,、表面輪廓,、臺(tái)階高度測(cè)量應(yīng)用

 

 

 



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