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普析通用 XD6多晶衍射儀

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產(chǎn)品標(biāo)簽

X射線衍射儀

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廣州貝拓科學(xué)技術(shù)有限公司成立于2010年8月,,是國(guó)家高新技術(shù)企業(yè),廣州科技小巨人企業(yè),,并在廣東股權(quán)交易中心成功掛牌(股權(quán)代碼:892081),,通過(guò)ISO9001-2015質(zhì)量體系認(rèn)證和知識(shí)產(chǎn)權(quán)貫標(biāo)認(rèn)定體系,擁有近30項(xiàng)國(guó)家磚利,。貝拓科學(xué)一直從事光譜分析儀器領(lǐng)域,,自主研發(fā)儀器有光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x,拉曼光譜儀,,表界面張力儀,,白光干涉膜厚分析儀,陣列式紫外可見(jiàn)分光光度計(jì),,積分球式透反射率測(cè)試儀等,。具備光學(xué)設(shè)計(jì)、機(jī)械設(shè)計(jì),、軟件編寫和算法編寫核心能力,,和中山大學(xué)、廣州大學(xué),、華南師范大學(xué)有緊密的合作關(guān)系,,并且是廣州大學(xué)物理與光電學(xué)院的長(zhǎng)期實(shí)習(xí)基地。貝拓科學(xué)所研發(fā)生產(chǎn)的產(chǎn)品定位在國(guó)內(nèi)高水平,,未來(lái)面向市場(chǎng),。

前臺(tái).jpg

貝拓科學(xué)陪伴著科學(xué)家一起探索未知事件,“Touch the future”作為我們的口號(hào),,貝拓科學(xué)尊重以嚴(yán)謹(jǐn)?shù)目茖W(xué)理論為指導(dǎo),,為科學(xué)家提供有力的科研工具。我們默默堅(jiān)持做前沿分析儀器的搬運(yùn)工,,陪伴科學(xué)家不斷成長(zhǎng),。我們很榮幸作為一些有儀器生產(chǎn)廠家,例如:日本Hitachi,,德國(guó)WITec,德國(guó)Bruker,,英國(guó)OXFORD,美國(guó)ThermoFisher,Ametek旗下輸力強(qiáng)和普林斯頓,以及中國(guó)臺(tái)灣OtO等大電子儀器廠家的代理,,一起為中國(guó)的科學(xué)家提供專業(yè)的服務(wù),。


我們的宗旨是為科學(xué)學(xué)提供更專業(yè),更貼心的服務(wù),。

我們的優(yōu)勢(shì)和專注點(diǎn)集中于材料測(cè)試方面,,為了普惠科研工作者,我們還提供測(cè)試服務(wù),,其中包括材料的結(jié)構(gòu),、元素分布、表面特征,、物理化學(xué)特性以及光學(xué),、電學(xué)特性的分析。

材料分析領(lǐng)域代理品牌:

OXFORD(牛津),、FEI(賽默飛),、KeySight(前安捷倫納米部)、STOE,、AMETEK(阿美特克),、TESCAN(泰思肯)、LEICA,、KRUSS,、BEL,、HITACHI(日立)、OTO(中國(guó)臺(tái)灣超微光學(xué)),、WITec(威泰克),、BRUKER(布魯克)、普析,、徠卡,、本原納米等。







接觸角測(cè)量?jī)x,、在線測(cè)厚儀,、光學(xué)膜厚儀、紅外光譜儀,、拉曼成像光譜儀,、拉曼電鏡、低溫恒溫器,、掃描探針顯微鏡/原子力,、納米壓痕劃痕儀、橢偏儀,、熱分析,、差示掃描熱儀

價(jià)格區(qū)間 20萬(wàn)-50萬(wàn) 儀器種類 探測(cè)器及其他設(shè)備
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子/電池,包裝/造紙/印刷,紡織/印染

普析通用 XD6多晶衍射儀

 

產(chǎn)品介紹

XD6型多晶X射線衍射儀用于晶體物質(zhì)結(jié)構(gòu)定性定量分析。該產(chǎn)品在XD3基礎(chǔ)上設(shè)計(jì),,測(cè)角儀掃描半徑可在150~285mm范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào),。該功能使得用戶可以在儀器測(cè)角分辨率和測(cè)試衍射線強(qiáng)度之間進(jìn)行均衡選擇,自行設(shè)定需要的試驗(yàn)條件,,滿足不同情況試驗(yàn)需求,。為了提高實(shí)驗(yàn)效率,XD6提高了快速轉(zhuǎn)動(dòng)速度,,達(dá)到1800°/min,。

普析通用 XD6多晶衍射儀
主要特點(diǎn)
  • 結(jié)構(gòu)新,采用*進(jìn)的立式測(cè)角儀結(jié)構(gòu),,更加方便的樣品放置方式,,對(duì)于操作、維護(hù)的工作力度大為簡(jiǎn)化,,更加直觀的使用,,便于清理實(shí)驗(yàn)后的樣品臺(tái)。

  • 采用細(xì)分驅(qū)動(dòng)電源技術(shù),,精度高,,重現(xiàn)性達(dá)到0.0005°、測(cè)量重復(fù)性0.001°、最小步進(jìn)角度0.0001°,掃描半徑連續(xù)可調(diào),;

  • 進(jìn)口NaI閃爍晶體計(jì)數(shù)探測(cè)器,,分辨率及長(zhǎng)期使用穩(wěn)定性好;

  • X射線管套采用整體銅棒材加工定位精度,、射線防護(hù)性更好,;采用了轉(zhuǎn)輪式快門,開(kāi)關(guān)速度更快,,故障率更低,,射線阻斷性更好,,機(jī)柜外輻射劑量低于0.2μSv/h(國(guó)標(biāo)規(guī)定要求低于2.5μSv/h),;

  • X射線光源的數(shù)字控制電路作了進(jìn)一步的改善,X光機(jī)的工作功率*由計(jì)算機(jī)遙控設(shè)定,。高壓與管流的加載過(guò)程受微電腦控制自動(dòng)操作,,使用更加簡(jiǎn)單,運(yùn)行更加可靠,;

  • 中文視窗操作界面,,全新改版的PDP衍射數(shù)據(jù)處理軟件包。在數(shù)據(jù)輸出多樣性方面作了重大改進(jìn),。

 
技術(shù)參數(shù)
 

配置名稱

XD6

X射線管

(Cu靶國(guó)產(chǎn))

種類

Cu靶,,NF型(其它靶材可選)

功率

2.0kW

焦點(diǎn)

1.0×10mm2

X射線發(fā)生器

最大輸出

4KW

X光管電壓

15~60kV,1kV /Step

X光管電流

6~80mA,,1mA /Step

管電壓,、管電流穩(wěn)定度

≤0.01%(電源低壓浮動(dòng)10%)

測(cè)角儀

測(cè)角儀結(jié)構(gòu)

θs-2θd(XD2)  θs-θd(XD3)

測(cè)角儀掃描半徑

150~285mm連續(xù)可調(diào)

掃描角度范圍

-30~80°(θs)

-30~160°(θd)

工作方式

連續(xù)掃描、定時(shí)步進(jìn)掃描,、定數(shù)步進(jìn)掃描

連續(xù)掃描速度

0.125~120°/min

高轉(zhuǎn)速可達(dá)到

1800°/min

2θ角重復(fù)精度

≤0.0005°

最小步進(jìn)角度

0.0001°

測(cè)量準(zhǔn)確度

≤0.001°

發(fā)散狹縫(DS)

1/6°,、1/2°、1°,、2°

防散射狹縫(SS)

1/2°,、1°、2°

接收狹縫(RS)

0.1,,0.15,,0.3,0.45,,0.6,,1,2mm

調(diào)整狹縫

0.02mm

檢測(cè)器

計(jì)數(shù)器

晶體類型

NaI

脈沖幅度分析器(HV/PHA)

輸出高壓0~1000V,,穩(wěn)定性≤0.01%(8h)

機(jī)柜

機(jī)柜尺寸(mm)

1200(長(zhǎng))×400(寬)×1850(高)

整機(jī)重量(kg)

500

觀察窗(mm)

600(高)×400(寬)×10(厚)鉛玻璃

X射線泄露量

≤0.1μSv/h(未扣除天然本底)

安全措施

門聯(lián)鎖保護(hù)(門到位置,,光閘才打開(kāi),產(chǎn)生X射線)

濾波器

Ni濾片

對(duì)應(yīng)Cu靶

石墨彎晶單色器

反射效率η≥28%

綜合指標(biāo)

整機(jī)綜合穩(wěn)定度

≤0.3%

 

 



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