磁控濺射源(1英寸/2英寸/3英寸)-真空組件
- 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/2/27 11:53:21
- 訪問次數(shù) 2891
聯(lián)系方式:張垚13916855175 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,,謝謝!
光刻機(jī),鍍膜機(jī),,磁控濺射鍍膜儀,,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),,氣溶膠設(shè)備,,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),,原子層沉積系統(tǒng)(ALD),,快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,,稀釋器,,濾料測試系統(tǒng)
應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,電氣,綜合 |
---|
磁控濺射源(1英寸/2英寸/3英寸)-真空組件
技術(shù)參數(shù):
我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶槍
安裝法蘭口徑:NW63CF,NW100CF
真空腔體內(nèi)長度范圍:150-400mm
真空腔體內(nèi)端面直徑:60-96
靶材直徑: 1", 2" and 3"
靶材最大厚度:4-6mm
冷卻:水冷
磁控濺射源/靶槍(1英寸/2英寸/3英寸)
特點(diǎn):
100%超高真空(UHV)應(yīng)用
放射性沉積模式
在線Z軸驅(qū)動及傾斜
水冷時(shí)不會存在水汽
平衡靶和非平衡靶設(shè)計(jì)
高強(qiáng)度磁體應(yīng)用于磁性材料
磁控濺射源(1英寸/2英寸/3英寸)-真空組件
應(yīng)用領(lǐng)域:
PVD沉積
金屬涂層
納米結(jié)構(gòu)薄膜
多層鍍層
反應(yīng)濺射
射頻濺射,,直流濺射,,脈沖直流濺射
硬質(zhì)涂層