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磁控濺射靶源-真空組件

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 科睿設備有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產地
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2025/2/27 13:53:52
  • 訪問次數(shù) 2453
產品標簽

磁控濺射靶源

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科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理,??祁9疽回灡小赫\信』、『品質』,、『服務』,、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國用戶提供儀器,、設備,,周到的技術、服務和*的整體解決方案,。在科技日新月異,、國力飛速發(fā)展的中國,納米科學研究,、薄膜材料(包括半導體)生長和表征,、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā),、有機高分子合成等等領域,,都需要與歐美發(fā)達國家*接軌的儀器設備平臺來實現(xiàn),??祁TO備有限公司有幸成長在這個火熱的年代,我們愿意化為一座橋梁,,見證中國科技水平的提升,,與中國科技共同飛速成長。
      科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設在中國香港,,在中國上海設立了分公司,,在國內多個城市設立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產品和服務,。2010年,,科睿設備有限公司在上海設立備品倉庫及維修中心,,同時提供在大陸的各項技術服務和后期的維修保障服務,我們擁有專業(yè)的應用維修人員,,并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓,。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務更加快捷和方便,。我們承諾24小時電話響應,,72小時內趕到現(xiàn)場維修。以利于更好,、更快的為中國大陸服務,!
      因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經為國內眾多科研院所和大學根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),,主要用戶包括:中科院物理所,,中科院半導體所,中科院大連化學物理研究所,,國家納米中心,,上海納米中心,北京大學,,清華大學,,中國科技大學,南京大學,,復旦大學,,上海交通大學,華東理工大學,,浙江大學,,中山大學,西安交通大學,,四川大學,,中國工程物理研究院,香港大學,,香港城市大學,,香港中文大學,香港科技大學等,。



光刻機,,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設備,,氣溶膠粒徑譜儀,,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),,原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,,氣溶膠發(fā)生器,,稀釋器,濾料測試系統(tǒng)

產地類別 國產 應用領域 電子,電氣,綜合

磁控濺射靶源-真空組件

我司提供的磁控濺射源是目前一和超高真空系統(tǒng)(1e-11torr)匹配的商業(yè)用濺射源,。 在不配置彈性墊圈的結構中,,可烘烤至250℃。在匹配的超高真空環(huán)境下,,可以實現(xiàn)超高純度的濺射沉積,。

磁控濺射靶源-真空組件
應用范圍:
金屬沉積;
電介質沉積,;
復合物沉積,。

技術參數(shù):
不同型號濺射源可以選用不同靶材尺寸 .1”,2”,3” 等各種靶材尺寸均可使用;
靶材厚度薄,低至4mm,節(jié)約靶材;
濺射源法蘭上帶有氣體管道,以便提高操作濺射源時的真空,。
手動/馬達驅動 擋板
濺射源可設計成原位傾斜,,傾斜角度(+/-30o)
氣體流量控制
進程全自動化
真空中可烘烤至250攝氏度;
占用空間小;
冷卻水流量低,僅0.5L/min




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