磁控濺射靶源-真空組件
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- 公司名稱 科睿設備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
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- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2025/2/27 13:53:52
- 訪問次數(shù) 2453
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光刻機,,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設備,,氣溶膠粒徑譜儀,,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),,原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,,氣溶膠發(fā)生器,,稀釋器,濾料測試系統(tǒng)
產地類別 | 國產 | 應用領域 | 電子,電氣,綜合 |
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磁控濺射靶源-真空組件
我司提供的磁控濺射源是目前一和超高真空系統(tǒng)(1e-11torr)匹配的商業(yè)用濺射源,。 在不配置彈性墊圈的結構中,,可烘烤至250℃。在匹配的超高真空環(huán)境下,,可以實現(xiàn)超高純度的濺射沉積,。
磁控濺射靶源-真空組件
應用范圍:
金屬沉積;
電介質沉積,;
復合物沉積,。
技術參數(shù):
不同型號濺射源可以選用不同靶材尺寸 .1”,2”,3” 等各種靶材尺寸均可使用;
靶材厚度薄,低至4mm,節(jié)約靶材;
濺射源法蘭上帶有氣體管道,以便提高操作濺射源時的真空,。
手動/馬達驅動 擋板
濺射源可設計成原位傾斜,,傾斜角度(+/-30o)
氣體流量控制
進程全自動化
真空中可烘烤至250攝氏度;
占用空間小;
冷卻水流量低,僅0.5L/min