日韩av大片在线观看欧美成人不卡|午夜先锋看片|中国女人18毛片水多|免费xx高潮喷水|国产大片美女av|丰满老熟妇好大bbbbbbbbbbb|人妻上司四区|japanese人妻少妇乱中文|少妇做爰喷水高潮受不了|美女人妻被颜射的视频,亚洲国产精品久久艾草一,俄罗斯6一一11萝裸体自慰,午夜三级理论在线观看无码

官方微信|手機版

產(chǎn)品展廳

產(chǎn)品求購企業(yè)資訊會展

發(fā)布詢價單

化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>分析儀器>其它分析儀器>其它通用分析> 濺射離子槍,,等離子體發(fā)生源

濺射離子槍,等離子體發(fā)生源

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 科睿設備有限公司
  • 品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2025/2/27 11:39:01
  • 訪問次數(shù) 569
產(chǎn)品標簽

濺射離子槍

聯(lián)系方式:張垚查看聯(lián)系方式

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理,。科睿公司一貫秉承『誠信』,、『品質(zhì)』,、『服務』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,,為廣大中國用戶提供儀器,、設備,周到的技術,、服務和*的整體解決方案,。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國,,納米科學研究,、薄膜材料(包括半導體)生長和表征、表面材料物性分析,、生物藥物開發(fā),、有機高分子合成等等領域,都需要與歐美發(fā)達國家*接軌的儀器設備平臺來實現(xiàn),??祁TO備有限公司有幸成長在這個火熱的年代,我們愿意化為一座橋梁,,見證中國科技水平的提升,,與中國科技共同飛速成長。
      科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設在中國香港,,在中國上海設立了分公司,,在國內(nèi)多個城市設立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務,。2010年,,科睿設備有限公司在上海設立備品倉庫及維修中心,,同時提供在大陸的各項技術服務和后期的維修保障服務,我們擁有專業(yè)的應用維修人員,,并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓,。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務更加快捷和方便,。我們承諾24小時電話響應,,72小時內(nèi)趕到現(xiàn)場維修。以利于更好,、更快的為中國大陸服務,!
      因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),,主要用戶包括:中科院物理所,,中科院半導體所,中科院大連化學物理研究所,,國家納米中心,,上海納米中心,北京大學,,清華大學,,中國科技大學,南京大學,,復旦大學,,上海交通大學,華東理工大學,,浙江大學,,中山大學,西安交通大學,,四川大學,,中國工程物理研究院,香港大學,,香港城市大學,,香港中文大學,香港科技大學等,。



光刻機,,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),,原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,,濾料測試系統(tǒng)

濺射離子槍,,等離子體發(fā)生源

濺射離子槍,等離子體發(fā)生源

IonEtch Sputter GunIonEtch Sputter Gun
濺射離子槍主要用途:

  • 濺射清洗/表面科學中樣品表面處理, MBE and HV 濺射過程

  • 離子輔助沉積

  • 離子束濺射鍍膜

  • 反應離子刻蝕
    技術指標:

    離子能量25eV - 5keV
    總的離子束電流1mA (at 5kV with Argon)
    High Current Version: up to 4mA (at 5kV with Argon)
    電流密度120μA/cm2 at 100mm working distance
    離子束發(fā)散角Ion energy dependant (typically 15°)
    工作距離100 mm (typically)
    等離子體杯 of secondary electrons)
    氣體進氣口徑CF-16 (1.33“OD)
    氣體流速1 - 5 sccm (1,5 sccm typical, gas dependant)
    工作真空度10-6mbar - 10-3mbar (1x10-5mbar typical in chamber with 300l/s pimp). Low 10-6 mbar range possible - beam current then 140μA max.
    激發(fā)模式微波放電等離子體 (無燈絲)
    安裝口徑CF-35 (2.75“OD)
    槍直徑34mm (真空端)
    泄露閥需要氣體質(zhì)量流量計


第二代等離子體源,,可以提供離子源,,原子源,離子/原子混合源
Plasma Source, GenII
原子源主要用途:
制備氮化物,,
e.g. GaN, AlN, GaAsN, SiN etc.
氫原子清洗,,
氫原子輔助MBE.
制備氧化物,
e.g. ZnO, Superconductors, Optical coatings, Dielectrics. 
摻雜,,
 e.g. ZnSe
離子源用途
:
離子束輔助沉積
(IBAD) for both UHV and HV processes
濺射沉積,,雙離子束濺射,
Sputter deposition and dual ion beam sputtering
濺射清洗/表面科學中的樣品表面處理,,
Sputter cleaning / surface preparation in surface science, MBE and HV sputter processes.
原位刻蝕,,
e.g. Chlorine
技術參數(shù):

Vacuum compatibility: Fully UHV compatible
Bakeable: >200°C
Microwave power: 250W max at 2.45GHz
Magnet type: Permanent rare-earth. Removeable for bakeout without breaking vacuum
Mounting: NW63CF (4.5"OD)
In vacuum length: 300mm (custom lengths possible): In vacuum diameter max = 57mm
Beam diameter: ~25mm at source (narrower beams also easily produced)
Plasma cup: Alumina
Aperture: Alumina or Boron Nitride
Gas flow rate: 0.01-100sccm depending on aperture selected
Working pressure: ~10-7 Torr to 5x10-3 Torr depending on aperture, pump and application - please contact tectra to discuss your application. Differential pumping option available
Working Distance: 50mm-300mm. 150mm typical
Cooling: Fully water-cooled (including magnetron)
Power supplies:
Microwave
Grid supply*
* Ion and Hybrid Source only
19” rack mount. 3U height. 230VAC, 50Hz or 115VAC, 60Hz
19” rack mount. 3U height. 230VAC, 50Hz or 115VAC, 60Hz
主要特點:
Key Features of the Plasma Source:
Filamentless
Suitable for use with most gases including reactive gases such as oxygen, chlorine, hydrogen, nitrogen etc.
No microwave tuning
Factory set. Simply turn the plasma on and off.
User configurable
The extraction optics are designed to be quickly and easily exchanged allowing users to customise their source to suit a particular combination of sample size, working pressure and current density. Easily exchanged apertures enable beam diameter, gas load and atom flux to be optimised.
simple bakeout preparation
new bakeable ECR magnets allow simple bekeout preparation by just undoing 4 screws. The magnets do not need to be removed but are still on the air side on a closed cooling loop. Hence no sintered material is exposed vacuum.
Al2O3 plasma region
Alumina plasma cup as standard with higher yield of secondary electrons, better resistance against aggressive gases such as Oxygen and ideal plasma striking capability
compact
the air side envilope sizes are brought to a minimum of just 258mm from flange (knife edge side) to case end



化工儀器網(wǎng)

采購商登錄
記住賬號    找回密碼
沒有賬號?免費注冊

提示

×

*您想獲取產(chǎn)品的資料:

以上可多選,,勾選其他,,可自行輸入要求

個人信息:

溫馨提示

該企業(yè)已關閉在線交流功能