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等離子體去膠機(jī)(高性價(jià)比)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/2/27 11:11:14
  • 訪問(wèn)次數(shù) 619
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等離子體去膠機(jī)

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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國(guó)外高科技儀器廠家在中國(guó)地區(qū)的代理,??祁9疽回灡小赫\(chéng)信』、『品質(zhì)』,、『服務(wù)』,、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)用戶提供儀器,、設(shè)備,,周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案,。在科技日新月異,、國(guó)力飛速發(fā)展的中國(guó),納米科學(xué)研究,、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長(zhǎng)和表征,、表面材料物性分析、生物藥物開(kāi)發(fā),、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域,,都需要與歐美發(fā)達(dá)國(guó)家*接軌的儀器設(shè)備平臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)??祁TO(shè)備有限公司有幸成長(zhǎng)在這個(gè)火熱的年代,,我們?cè)敢饣癁橐蛔鶚蛄?,?jiàn)證中國(guó)科技水平的提升,與中國(guó)科技共同飛速成長(zhǎng),。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國(guó)香港,,在中國(guó)上海設(shè)立了分公司,在國(guó)內(nèi)多個(gè)城市設(shè)立了辦事處或維修站,,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年,,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉(cāng)庫(kù)及維修中心,,同時(shí)提供在大陸的各項(xiàng)技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,,并且都曾到國(guó)外廠家進(jìn)行了專門(mén)的培訓(xùn),。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便,。我們承諾24小時(shí)電話響應(yīng),,72小時(shí)內(nèi)趕到現(xiàn)場(chǎng)維修。以利于更好,、更快的為中國(guó)大陸服務(wù),!
      因?yàn)樾湃?所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國(guó)內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),,主要用戶包括:中科院物理所,,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,,國(guó)家納米中心,,上海納米中心,北京大學(xué),,清華大學(xué),,中國(guó)科技大學(xué),南京大學(xué),,復(fù)旦大學(xué),,上海交通大學(xué),華東理工大學(xué),,浙江大學(xué),,中山大學(xué),西安交通大學(xué),,四川大學(xué),,中國(guó)工程物理研究院,香港大學(xué),,香港城市大學(xué),,香港中文大學(xué),,香港科技大學(xué)等。



光刻機(jī),,鍍膜機(jī),,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,,開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),,氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),,原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,,氣溶膠發(fā)生器,,稀釋器,濾料測(cè)試系統(tǒng)

等離子體去膠機(jī)(高性價(jià)比)

儀器應(yīng)用
 Isotropic dry etching of polymer (photo resist)
 Cleaning of silicon (or glass) wafer surface
 Removal of native oxide on wafer


等離子體去膠機(jī)(高性價(jià)比)技術(shù)參數(shù):
 Sample size & throughput : 4 ~ 8inch, Single wafer
 RF power : 600W @13.56MHz, Auto matching control
 Substrate chuck : Heating or Cooling available (selectable)
 Process gas : O2, CF4 ,Ar, N2
 Gas supply method : Showerhead type
 Ultimate pressure : ≤ 5×10-3Torr
 Vacuum pump : Rotary pump
 Process control : Auto process control (PLC)


常用工藝參數(shù):
Photoresist Etch

 

gas100% O2
operating pressure100 millitorr
power level100 watts
etch rate997 angstroms/min
uniformity+/- 5%

 
Nitride Etch

 

gas95% CF4 / 5% O2
operating pressure100 millitorr
power level100 watts
etch rate450 angstroms/min
uniformity+/- 5%

 
BiPolar Silicon Glass (BPSG) Etch

 

gas95% CF4 / 5% O2
operating pressure100 millitorr
power level100 watts
etch rate520 angstroms/min
uniformity+/- 5%

 
PolySilicon Glass (PSG) Etch

 

gas95% CF4 / 5% O2
operating pressure100 millitorr
power level100 watts
etch rate450 angstroms/min
uniformity+/- 5%

 
Oxide Etch (SiO2)

 

gas95% CF4 / 5% O2
operating pressure100 millitorr
power level100 watts
etch rate200 angstroms/min
uniformity+/- 10%

 
Aluminum Etch*

 

gas80% BCl3 /20% Cl2
operating pressure150 millitorr
power level150 watts
etch rate200 angstroms/min
uniformity+/- 5%

 



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