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電子槍(電子損失譜,,俄歇電子能譜可用)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/2/27 11:35:26
  • 訪問次數(shù) 606
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電子槍

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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理。科睿公司一貫秉承『誠信』,、『品質(zhì)』,、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,,為廣大中國用戶提供儀器,、設(shè)備,周到的技術(shù),、服務(wù)和*的整體解決方案,。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國,,納米科學(xué)研究,、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長和表征、表面材料物性分析,、生物藥物開發(fā),、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達(dá)國家*接軌的儀器設(shè)備平臺來實(shí)現(xiàn),??祁TO(shè)備有限公司有幸成長在這個(gè)火熱的年代,我們愿意化為一座橋梁,,見證中國科技水平的提升,,與中國科技共同飛速成長。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國香港,,在中國上海設(shè)立了分公司,,在國內(nèi)多個(gè)城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù),。2010年,,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉庫及維修中心,同時(shí)提供在大陸的各項(xiàng)技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),,我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,,并且都曾到國外廠家進(jìn)行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便,。我們承諾24小時(shí)電話響應(yīng),72小時(shí)內(nèi)趕到現(xiàn)場維修,。以利于更好,、更快的為中國大陸服務(wù)!
      因?yàn)樾湃?所以理解.我們理解用戶的困難和需求,。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),,主要用戶包括:中科院物理所,,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,,國家納米中心,,上海納米中心,,北京大學(xué),,清華大學(xué),中國科技大學(xué),,南京大學(xué),,復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),,華東理工大學(xué),,浙江大學(xué),中山大學(xué),,西安交通大學(xué),,四川大學(xué),中國工程物理研究院,,香港大學(xué),,香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),,香港科技大學(xué)等,。



光刻機(jī),鍍膜機(jī),,磁控濺射鍍膜儀,,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),,氣溶膠設(shè)備,,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),,原子層沉積系統(tǒng)(ALD),,快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,,稀釋器,,濾料測試系統(tǒng)

電子槍(電子損失譜,俄歇電子能譜可用)

ELS100型:(電子損失譜)
¨ Low Energy Electron Gun designed for Electron Loss Spectroscopy(ELS)
¨ Beam Energy variable 5 to 100eV
¨ Low Energy Spread ~ 0.25eV FWHM using LaB6 or BaO filament
¨ 1mm typical spot size
¨ Beam current monitor with sample biasing voltage
¨ Mu-metal magnetic screen.

電子槍(電子損失譜,,俄歇電子能譜可用)
¨ Front Panel Control of Kinetic Energy, Filament Current, Wehnelt (Grid), Anode, Focus and Beam Deflection
¨ External Kinetic Energy sweep (e.g. by Computer Control)
¨ X-Y static deflectors for beam positioning on sample
¨ Mounting flange : 70mm (2.75”) OD CF
¨ Manufactured to suit your chamber sample – flange distance
¨ Bakeable UHV compatible construction with single multiway electrical feedthrough

ELS5000型:(俄歇電子能譜)
¨ Ideal for Static Auger Electron Spectroscopy AES
¨ Beam Energy variable 0 to 5000eV
¨ Beam current range 10nA to 30mA
¨ Beam current monitor with sample biasing voltage
¨ Typical spot size < 50mm with 1mA beam current (measured at 2keV beam energy with a typical working distance of 50mm)
¨ Working distance 15 to 500mm
¨ X-Y static deflectors for beam positioning on sample
¨ Mounting flange : 70mm (2.75”) OD CF
¨ Suitable for ports with sample - flange distance up to 750mm
¨ Bakeable UHV compatible construction
¨ Single multiway feedthrough with locking connector



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