紫外臭氧清洗機（UVO）

英國Ossila公司提供的紫外臭氧清洗機（UVO）,，是一種簡單,，經(jīng)濟，快速的材料表面清洗設備,，只需把樣品放置到樣品盤上,，關上艙門，設置時間,，并按運行,，就可以了，能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英,，硅片,，金，鎳,，鋁,，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物,。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時，紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,，只需要在傳統(tǒng)清洗后,，再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得！

目前紫外臭氧清洗機的主要應用表面UV光清洗和表面UV光改質,。

u 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE,，對有機物質所起的光敏氧化分解作用，以達到去除粘附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物）,，獲得超潔凈的表面,。

u 表面UV光改質：利用紫外光照射有機表面，在將有機物分解的同時,，254nm波長的紫外光被物體表面吸收后,，將表層的化學結構切斷，光子作用產(chǎn)生原子氧會與被切斷的表層分子結合,，并將之變換成具有高度親水性的官能基（如-OH,，-CHO，-COOH）,，從而提高表面的浸潤性,。

主要應用

• 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。

• 微電子產(chǎn)品的表面清洗：微型馬達軸,磁頭驅動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導體硅片,掩膜版,。

• 精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結墊的清洗,。

• 在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接,，塑料汽車部件,，透鏡保護膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導管的表面改型等。

          科研過程的表面清洗及處理：半導體,，生物芯片,，納米材料，聚合物,，光化學等,。

產(chǎn)品特點

• 成本低。

• 120x120mm樣品臺,。

• 大處理樣品高14mm,。

• 抽屜式樣品臺，簡單方便,。

• 樣品臺自動安全開關,打開UV自動關閉,，防止對人身傷害。    

• LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”,。

• UVO顯示器

• 60分鐘定時器,。

• 高強度UV燈源,。

• 可控溫的樣品臺。

• 樣品清洗無需溶劑,。

• 超凈表面,。

UVO樣品托盤

二、技術參數(shù)

在紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。