美國(guó)BIOFORCE紫外臭氧清洗機(jī)(UVO)入駐山東大學(xué)
美國(guó)Biofore公司的ProCleaner ™的產(chǎn)品線提供非常有競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)位,,并給研究者提供更多的選擇機(jī)會(huì)。該P(yáng)roCleaner ™裝置的用途是消除分子程度的污染,使探針和表面盡可能清潔,。
應(yīng)用領(lǐng)域:
?預(yù)處理表面圖案化工具
?清潔硅和氮化硅探針
?晶圓清洗
?表面氧化及制備
?提高表面親水性
?表面清洗
?制備薄膜沉積
?紫外光固化
?表面圖案化
?清洗光學(xué)鏡頭
?粘接硅橡膠
?表面消毒
?清潔MEMS器件
可處理材料表面:
?氮化硅
? 金屬
?玻璃
?云母
?石英
?陶瓷
?聚合物
產(chǎn)品特點(diǎn):
?高強(qiáng)度UV燈源,,持續(xù)的清除樣品表面有機(jī)污染物,;
?成本低,、簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì),、快速,;
?結(jié)構(gòu)緊湊(體積小),;
?抽屜式樣品臺(tái),;
?多功能樣品定位支架
?安全聯(lián)鎖和指示燈
?樣品清洗無(wú)需溶劑;
?超潔凈表面,;
?室溫操作,。
技術(shù)參數(shù):
型號(hào):UV Ozone Cleaner–ProCleaner™ Plus、UV Ozone Cleaner–ProCleaner™
樣品臺(tái)尺寸:100mmx125mm,;
zui大處理樣品高25mm,;
適用電壓:230V,0.6A,50Hz(110V,1.2A,60Hz);
重量15 lbs,。
英國(guó)Ossila紫外臭氧清洗機(jī)入駐中科院金屬研究所
英國(guó)Ossila公司提供的紫外臭氧清洗機(jī)(UVO),,是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì),,快速的材料表面清洗設(shè)備,,只需把樣品放置到樣品盤上,關(guān)上艙門,設(shè)置時(shí)間,,并按運(yùn)行,,就可以了,,能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,,硅片,金,,鎳,,鋁,砷化鎵,,氧化鋁等)上的有機(jī)污染物,。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí),紫外清洗非常理想,。要獲得超潔凈的表面,,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得,!
目前紫外臭氧清洗機(jī)的主要應(yīng)用表面UV光清洗和表面UV光改質(zhì),。
表面UV光清洗:利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE,對(duì)有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化分解作用,,以達(dá)到去除粘附在物體表面上的有機(jī)化合物(碳?xì)浠衔铮?,獲得超潔凈的表面。
表面UV光改質(zhì):利用紫外光照射有機(jī)表面,,在將有機(jī)物分解的同時(shí),,254nm波長(zhǎng)的紫外光被物體表面吸收后,將表層的化學(xué)結(jié)構(gòu)切斷,,光子作用產(chǎn)生原子氧會(huì)與被切斷的表層分子結(jié)合,,并將之變換成具有高度親水性的官能基(如-OH,-CHO,,-COOH),,從而提高表面的浸潤(rùn)性。
主要應(yīng)用:
石英/玻璃制品的表面清洗:液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等,。
微電子產(chǎn)品的表面清洗:微型馬達(dá)軸,磁頭驅(qū)動(dòng)架,光盤,光電器件,手機(jī)攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導(dǎo)體硅片,掩膜版,。
精密集成電路的表面清洗:液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結(jié)墊的清洗。
在膠粘接或是印刷之前,,對(duì)高分子聚合制品的表面改性:橡膠粘接,,塑料汽車部件,透鏡保護(hù)膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導(dǎo)管的表面改型等,。
科研過程的表面清洗及處理:半導(dǎo)體,,生物芯片,納米材料,聚合物,,光化學(xué)等,。
產(chǎn)品特點(diǎn)
成本低;
?120x120mm樣品臺(tái),;
?zui大處理樣品高14mm,;
?抽屜式樣品臺(tái),簡(jiǎn)單方便,;
?樣品臺(tái)自動(dòng)安全開關(guān),打開UV自動(dòng)關(guān)閉,,防止對(duì)人身傷害; UVO顯示器
?LCD屏顯示“已用時(shí)間”和“剩余時(shí)間”,;
?60分鐘定時(shí)器,;
?高強(qiáng)度UV燈源;
?可控溫的樣品臺(tái),;
?樣品清洗無(wú)需溶劑,;
?超凈表面。
技術(shù)參數(shù)
在紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質(zhì)上(300納米二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右),。
相關(guān)產(chǎn)品
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