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隨著光電子產業(yè)的迅猛發(fā)展,，清洗工藝在光電產品中是不會缺少的工藝,，清洗對產品的質量,、精度,、外觀等方面的影響也越來越重要,。如何保證產品的高可靠性和高成品率,，且同時保證生產的安全性及生產過程中對環(huán)境的保護?那么,，對使用者來說選擇高潔凈度，且又具有安全,、環(huán)保性能的清洗設備尤為重要,，在以往的清洗技術(化學清洗和物理清洗)中，很難達到要求,。那在又安全又環(huán)保的前提下,，如何*清除物體表面的污物?目前國外廣泛使用的清洗方法是紫外光臭氧清洗，它能避免由于使用有機溶劑造成的污染,，同時能夠將清洗過程縮短,。
紫外臭氧清洗機是一種采用無接觸方式，在空氣中進行且在清洗后不必進行干燥,。在清洗過程中主要是依靠等中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的,。就反應機理來看,，清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)，氣相物質被吸附在固體表面,，被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子,，產物分子解析形成氣相，反應殘余物脫離表面,。
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