在工業(yè)應(yīng)用中,，光學(xué)3D表面輪廓儀超0.1nm的縱向分辨能力能夠高精度測量物體的表面形貌,，可用于質(zhì)量控制,、表面工程和納米制造等領(lǐng)域,。

與其它表面形貌測量方法相比，SuperViewW系列光學(xué)3D表面輪廓儀達(dá)到納米級別的相移干涉法(PSI)和垂直掃描干涉法(VSI),，具有快速,、非接觸的優(yōu)點(diǎn)。它結(jié)合了跨尺度納米直驅(qū)技術(shù),、精密光學(xué)干涉成像技術(shù),、連續(xù)相移掃描技術(shù)三大技術(shù)，能夠?yàn)V除光源不均勻帶來的誤差,，以超越0.1nm的縱向分辨能力,，讓顯微形貌分毫畢現(xiàn)；以優(yōu)于0.1%的臺階測量重復(fù)性,，讓測量數(shù)據(jù)萬千如一,。

在半導(dǎo)體行業(yè)，SuperViewW系列光學(xué)3D表面輪廓儀可用于檢測芯片表面缺陷和顆粒,，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和性能,，從而將不良產(chǎn)品阻截在市場之外,；IC封裝中用于測量減薄之后的厚度,、晶圓的粗糙度,、激光切割后的槽深槽寬，測量導(dǎo)線框架的粗糙度,；在分立器件封裝中,，測量QA對打線深度，彈坑深度,。

減薄工序中粗磨和細(xì)磨后的硅片表面3D圖像,，用表面粗糙度Sa數(shù)值大小及多次測量數(shù)值的穩(wěn)定性來反饋加工質(zhì)量。在生產(chǎn)車間強(qiáng)噪聲環(huán)境中測量的減薄硅片,，細(xì)磨硅片粗糙度集中在5nm附近,，以25次測量數(shù)據(jù)計(jì)算重復(fù)性為0.046987nm，測量穩(wěn)定性良好,。

彈坑深度測量

在涂層表面粗糙度和厚度的研究上,，可以監(jiān)測納米級結(jié)構(gòu)的生長過程，為科學(xué)研究提供了更準(zhǔn)確的測量手段,。

此外,，不管是從超光滑到粗糙，還是低反射率到高反射率的物體表面,，光學(xué)3D表面輪廓儀都能夠以優(yōu)于納米級的分辨率,，自動聚焦測量工件獲取2D，3D表面粗糙度,、輪廓等一百余項(xiàng)參數(shù),。

全透明表面、漫反射表面,、鏡面反射表面,，可測反射率：覆蓋近0%~100%的表面反射率。

光學(xué)3D表面輪廓儀具有高精度,、高速度和高可靠性等優(yōu)點(diǎn),，在科學(xué)研究、質(zhì)量控制,、表面工程和納米制造等領(lǐng)域中,，發(fā)揮著舉足輕重的作用。