光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜產(chǎn)品的測量
光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng),可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及nk,采用r-θ極坐標(biāo)移動平臺,,可以在幾秒鐘的時間內(nèi)快速的定位所需測試的點并測試厚度,,可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形,、或線性的圖形模式,,也可以編輯自己需要的測試點。針對不同的晶圓尺寸,,盒對盒系統(tǒng)可以很容易的自動轉(zhuǎn)換,,匹配當(dāng)前盒子的尺寸。49點的分布圖測量只需耗時約45秒,。用激光粒度分布儀測試膠體的粒度分布時應(yīng)配合其它檢測手段驗證測試結(jié)果的準(zhǔn)確性,,同時應(yīng)使用去離子水作為分散介質(zhì),防止自來水中的電解質(zhì)造成顆粒團(tuán)聚影響測試結(jié)果,。適用于已知折射率的單一物質(zhì)粒度分布測試,,因此測試前要知道被測樣品的折射率,折射率選取的不同會對測試結(jié)果造成一定的影響,。
光學(xué)膜厚儀的主要特點:基片折射率和消光系數(shù)測量,;薄膜厚度測量,平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差分析,;薄膜折射率和消光系數(shù)測量;適用于不用材質(zhì)和厚度的薄膜,、涂層和基片;測試數(shù)據(jù)輸出和加載,;直接Patterned或特征機(jī)構(gòu)的試樣測試,;可用于實時在線薄膜厚度、折射率監(jiān)測,;波長范圍可選,;系統(tǒng)配備強(qiáng)大的光學(xué)常數(shù)庫和材料數(shù)據(jù)庫,便于測試和數(shù)據(jù)分析,。
光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜,,并且還有半導(dǎo)體液晶顯示器等一系列的材料和產(chǎn)品的測量。一般的產(chǎn)品我們可以拿尺來進(jìn)行測量,,對精度要求也不高,。但是對薄膜等產(chǎn)品來說,精度是關(guān)系到產(chǎn)品的組裝和性能的,,所以一定要測量,。測量儀不僅能夠準(zhǔn)確的進(jìn)行測量,還能及時的顯示出數(shù)據(jù),。
其次可以計算薄膜厚度,,一般采用光干涉法,薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān),,因此可通過計算得到薄膜的厚度,。光干涉法是一種無損、快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù),,我們的薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度,。
再次,就是操作方便,,效率較高,。這種優(yōu)勢對于薄膜測試的時候是非常重要的,畢竟薄膜測試是一種比較枯燥的工作,,如果測試又比較繁雜的話,,會使人心情焦躁,難免會影響測試時間和測試結(jié)果,。而操作方便,,容易上手,幾秒鐘內(nèi)即可完成測量和數(shù)據(jù)分析,,發(fā)展?jié)摿薮蟆?/div>
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