勻膠轉(zhuǎn)速：基片的轉(zhuǎn)速不僅影響到作用于光刻膠的離心力,，而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的*湍動和基片與空氣的相對運(yùn)動速度,。光刻膠的最終膜厚通常都由勻膠轉(zhuǎn)速所決定。尤其在高速旋轉(zhuǎn)這個(gè)階段,，轉(zhuǎn)速±50rpm這樣微小變化就能造成最終膜厚產(chǎn)生10%的偏差,。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥（溶劑揮發(fā)）速率之間平衡的結(jié)果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā),，粘度越來越大,，直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動。到這個(gè)點(diǎn)上,，膠膜厚度不會隨勻膠時(shí)間延長而變薄,。

  勻膠加速度：勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產(chǎn)生影響。因?yàn)樵诨D(zhuǎn)的*一階段,，光刻膠就開始干燥（溶劑揮發(fā)）了,。所以準(zhǔn)確控制加速度很重要。在一些勻膠過程中,，光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過程開始的幾秒鐘內(nèi)揮發(fā)掉了,。在已經(jīng)光刻有圖形的基片上勻膠，加速度對膠膜質(zhì)量同樣起重要作用,。在許多情況下,，基片上已經(jīng)由前面工序留下來的精細(xì)圖形。因此,，在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的,。勻膠過程總是對光刻膠產(chǎn)生離心力，而恰恰是加速度對光刻膠產(chǎn)生扭力,，這個(gè)扭力使光刻膠在已有圖形的周圍散開,，這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。