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勻膠旋涂儀主要用于液體,，膠體在材料表面薄膜的形成,，適用于硅片,，晶片，玻璃,，陶瓷等制版表面涂覆工藝,。可在科研,，教育,，生產(chǎn)中應(yīng)用。勻膠旋涂儀主要用微細(xì)加工,、半導(dǎo)體、微電子,、光電子和納米技術(shù)工藝中在硅片,、陶瓷片上勻膠等工藝與光刻,、烘烤等設(shè)備配合使用。
勻膠旋涂儀的工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片,，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,，勻膠機(jī)常用于各種溶膠凝膠實(shí)驗(yàn)中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,，也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān),。一般來說，勻膠轉(zhuǎn)速快,，時間長,，膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多,，這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡,。所以*好給予勻膠過程以足夠的時間，讓諸多影響因素達(dá)到平衡,。
華儀行提供的Ossila勻膠旋涂儀,，操作簡單，方便實(shí)用,，旋涂均勻,，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案,，其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤式旋涂吸盤,，無需真空泵或充氮?dú)猓湍苓_(dá)到很好的旋涂效果,。
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