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日本Otsuka大塚FHS-1000高靈敏度光譜儀
| 參考價(jià): | 面議 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- 產(chǎn)品型號
- OTSUKA/日本大塚 品牌
- 代理商 廠商性質(zhì)
- 成都市 所在地
訪問次數(shù)：137更新時(shí)間：2025-02-22 11:23:31
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產(chǎn)品簡介
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
特點(diǎn)： 采用具有高亮度和色度精度的光譜方法（衍射光柵）,， 0.005cd / m 2的超低亮度到400000cd / m 2的高亮度都可測量,， 對應(yīng)CIE推薦的寬波長范圍（355 nm至835 nm） 光學(xué)系統(tǒng)降低了...
產(chǎn)品介紹
日本Otsuka大塚FHS-1000高靈敏度光譜儀-成都藤田科技提供
產(chǎn)品信息
特長
采用具有高亮度和色度精度的光譜方法（衍射光柵）,，
0.005cd / m 2的超低亮度到400,000cd / m2的高亮度都可測量,，
對應(yīng)CIE推薦的寬波長范圍（355nm至835 nm）
光學(xué)系統(tǒng)降低了偏振誤差（<1％）,，
并且像LCD一樣具有偏振特性的樣品也可以進(jìn)行高精度測量
可以執(zhí)行最短1秒的高速測量,，包括通信時(shí)間,。
（在連續(xù)測量的情況下,，可以更快的進(jìn)行測量,，最短約20毫秒/次）
可在不改變測量角度下測量的廣泛的亮度范圍。
（測量角度2°時(shí),，0.005cd / m2~4,000cd / m2）
可以對頻率照明光源執(zhí)行高精度的穩(wěn)定測量,。
（輸入照明頻率自動將曝光時(shí)間設(shè)置為照明周期的整數(shù)倍）
搭載了對應(yīng)響應(yīng)測量的產(chǎn)品?！?br/>也可能對應(yīng)人眼可視顏色外觀模型“CIECAM 02標(biāo)準(zhǔn)“的輸出,。※
考慮到眼睛薄度（浦肯野現(xiàn)象現(xiàn)象）,，也可對應(yīng)“CIE 200：2011標(biāo)準(zhǔn)“的輸出,。※
測定項(xiàng)目
-輻射率（W / sr / m 2）
- 亮度（cd / m 2）
- 色度坐標(biāo)xy [符合CIE 1931]
- 色度坐標(biāo)U'V'[CIE 1976兼容]
- 色度坐標(biāo)U'V'[符合CIE 1976]
- 相關(guān)色溫 - 色度（C）* 3
- CIE顏色系統(tǒng)2°/ 10°
- 三刺激值XYZ - 等效亮度值* 4
- 偏差
- 光譜數(shù)據(jù)的算術(shù)運(yùn)算
- 光譜數(shù)據(jù)的功能處理
- 色域(NTSC比率)* 1
- 響應(yīng)速度* 2
- 明度（J）* 3
- 亮度（Q）* 3
- 飽和度(s)* 3
- 色度（C）* 3
- 色彩（M）* 3
* 1選項(xiàng)
* 2使用HS-1000 RT
* 3符合CIECAM 02標(biāo)準(zhǔn)時(shí)
* 4 CIE 200：符合2011標(biāo)準(zhǔn)時(shí)
用途：
LCD,、PDP,、有機(jī)EL，大屏幕LED等的視覺光譜數(shù)據(jù)•亮度•色度•相關(guān)色溫測量
照明光源的光譜數(shù)據(jù),，例如燈•亮度•色度•相關(guān)色溫測量
作為各種亮度/色度測量儀器的參考設(shè)備
對非接觸式物體的顏色測量
規(guī)格式樣
HS-1000 | |
|---|---|
測色方式 | 分光方式 |
波長范圍 | 355 nm ~ 835 nm / 330 nm ~ 1100 nm |
量測角 | 0.1°,、0.2°、1°、2° |
測量距離※ | 24 0mm ~ ∞ |
測量面積直徑 | 約10.0m m以下 |
測量面積直徑 | 約5.0mm 以下 |
測量面積直徑 | 約1.0mm 以下 |
測量面積直徑 | 約0.5mm 以下 |
輝度精度 | ±2% |
色度精度 | ±0.002 以下 |
尺寸 | 187(W) x 249(H) x 400（D) mm 以下 |
重量 | 約7.5kg 以下 |
※以接物鏡頭之前端為起始
系統(tǒng)架構(gòu)圖
核心特點(diǎn)：
超大基板全覆蓋：專為下一代尺寸玻璃基板設(shè)計(jì)（支持超長/超寬規(guī)格）,，可高效測量LCD,、TFT、有機(jī)EL等大型面板,，兼容PI,、ITO、SiN,、介電層等復(fù)雜膜層結(jié)構(gòu),。
納米級精度與秒級速度：采用分光干涉+AI算法技術(shù)，單點(diǎn)測量時(shí)間＜1秒,，膜厚精度±0.1nm,，光學(xué)常數(shù)（n/k）解析＜0.5%，滿足量產(chǎn)級質(zhì)量控制需求,。
全場景適配性：從研發(fā)實(shí)驗(yàn)室到自動化產(chǎn)線,，支持在線（inline）集成，可定制XYZ多軸平臺,，實(shí)現(xiàn)基板全域厚度分布映射與缺陷快速篩查,。
高速量產(chǎn)優(yōu)化：每小時(shí)可檢測超3000點(diǎn)，支持多探頭并行測量,，大幅提升玻璃基板（如G8/G10）產(chǎn)線效率,，降低設(shè)備綜合成本（CoO）。
超薄與超厚膜通吃：量程覆蓋1nm至200μm,，適用于OC（光學(xué)膠）,、Resist（光刻膠）等軟膜與硬質(zhì)涂層的精準(zhǔn)厚度控制。
低維護(hù)：非接觸式測量設(shè)計(jì),，無探針損耗,，長期使用穩(wěn)定性達(dá)99.8%，搭配遠(yuǎn)程診斷功能,，減少停機(jī)風(fēng)險(xiǎn),。
日本Otsuka大塚FHS-1000高靈敏度光譜儀-成都藤田科技提供
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