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日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長(zhǎng)
| 參考價(jià): | 面議 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- 產(chǎn)品型號(hào)
- OTSUKA/日本大塚 品牌
- 代理商 廠商性質(zhì)
- 成都市 所在地
訪問(wèn)次數(shù)：132更新時(shí)間：2025-02-22 10:11:01
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
采用線掃描方式檢測(cè)整面薄膜 硬件軟件均為創(chuàng)新設(shè)計(jì) 作為專業(yè)膜厚測(cè)定廠商，提供多種支援 實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量實(shí)現(xiàn)高速測(cè)量 不受偏差影響 可對(duì)應(yīng)寬幅樣...
產(chǎn)品介紹
日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長(zhǎng)-成都藤田科技提供
產(chǎn)品信息
特點(diǎn)
● 可在紫外和可見(jiàn)（250至800nm）波長(zhǎng)區(qū)域中測(cè)量橢圓參數(shù)
● 可分析納米級(jí)多層薄膜的厚度
● 可以通過(guò)超過(guò)400ch的多通道光譜快速測(cè)量Ellipso光譜
● 通過(guò)可變反射角測(cè)量，可詳細(xì)分析薄膜
● 通過(guò)創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)和追加菜單注冊(cè)功能,，增強(qiáng)操作便利性
● 通過(guò)層膜貼合分析的光學(xué)常數(shù)測(cè)量可控制膜厚度/膜質(zhì)量
測(cè)量項(xiàng)目
測(cè)量橢圓參數(shù)（TANψ，COSΔ）
光學(xué)常數(shù)（n：折射率,，k：消光系數(shù)）分析
薄膜厚度分析
用途
半導(dǎo)體晶圓
柵氧化膜,，氮化膜
SiO2,，SixOy,，SiN,，SiON,，SiNx，Al2O3,，SiNxOy,，poly-Si，ZnSe,，BPSG，TiN
光學(xué)常數(shù)（波長(zhǎng)色散）
復(fù)合半導(dǎo)體
AlxGa（1-x）多層膜,、非晶硅
FPD
取向膜
等離子顯示器用ITO,、MgO等
各種新材料
DLC（類金剛石碳）、超導(dǎo)薄膜,、磁頭薄膜
光學(xué)薄膜
TiO2,，SiO2多層膜、防反射膜,、反射膜
光刻領(lǐng)域
g線（436nm）,、h線（405nm）、i線（365nm）和KrF（248nm）等波長(zhǎng)的n,、k評(píng)估
原理
包括s波和p波的線性偏振光入射到樣品上,，對(duì)于反射光的橢圓偏振光進(jìn)行測(cè)量。s波和p波的位相和振幅獨(dú)立變化,，可以得出比線性偏振光中兩種偏光的變換參數(shù),，即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。
產(chǎn)品規(guī)格
型號(hào) | FE-5000 |
|---|---|
樣品尺寸 | 200x200毫米 |
入射（反射）的角度范圍 | 45至90° |
入射點(diǎn)直徑*2 | 關(guān)于φ1.2sup*3 |
測(cè)定波長(zhǎng)范圍*5 | 250至800納米 |
平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方式 | 手動(dòng)/自動(dòng) |
裝載機(jī)兼容 | 可 |
尺寸,，重量 | 1300（W）×900（D）×1750（H）mm 約350公斤*7 |
*1可以驅(qū)動(dòng)偏振器,，可以分離不感帶有效的位相板。
*2取決于短軸角度,。
*3對(duì)應(yīng)微小點(diǎn)（可選）
*4它是使用VLSI標(biāo)準(zhǔn)SiO2膜（100nm）時(shí)的值,。
*5可以在此波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行選擇。
*6光源因測(cè)量波長(zhǎng)而異,。
*7選擇自動(dòng)平臺(tái)時(shí)的值,。
測(cè)量示例
以梯度模型分析ITO結(jié)構(gòu)[FE-0006]
作為用于液晶顯示器等的透明電極材料ITO（氧化銦錫），在成膜后的退火處理（熱處理）可改善其導(dǎo)電性和色調(diào),。此時(shí),，氧氣狀態(tài)和結(jié)晶度也發(fā)生變化，但是這種變化相對(duì)于膜的厚度是逐漸變化的,，不能將其視為具有光學(xué)均勻組成的單層膜,。
以下介紹對(duì)于這種類型的ITO，通過(guò)使用梯度模型,，從上界面和下界面的nk測(cè)量斜率,。
考慮到表面粗糙度測(cè)量膜厚度值[FE-0008]
當(dāng)樣品表面存在粗糙度（Roughness）時(shí),，將表面粗糙度和空氣（air）及膜厚材料以1：1的比例混合,模擬為“粗糙層"，可以分析粗糙度和膜厚度,。以下介紹了測(cè)量表面粗糙度為幾nm的SiN（氮化硅）的情況,。
使用非干涉層模型測(cè)量封裝的有機(jī)EL材料[FE-0011]
有機(jī)EL材料易受氧氣和水分的影響，并且在正常大氣條件下它們可能會(huì)發(fā)生變質(zhì)和損壞,。因此,，在成膜后立即用玻璃密封。以下介紹在密封狀態(tài)下通過(guò)玻璃測(cè)量膜厚度的情況,。玻璃和中間空氣層使用非干涉層模型,。
使用多點(diǎn)相同分析測(cè)量未知的超薄nk[FE-0014]
為了通過(guò)擬合最小二乘法來(lái)分析膜厚度值（d）需要材料nk。如果nk未知,，則d和nk都被分析為可變參數(shù),。然而，在d為100nm或更小的超薄膜的情況下,，d和nk是無(wú)法分離的,，因此精度將降低并且將無(wú)法求出精確的d。在這種情況下,，測(cè)量不同d的多個(gè)樣本,，假設(shè)nk是相同的，并進(jìn)行同時(shí)分析（多點(diǎn)相同分析）,，則可以高精度,、精確地求出nk和d。
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