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批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備
  • 批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備

更新時(shí)間：2024-11-19 21:00:07

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簡(jiǎn)要描述：批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備為一種使用化學(xué)氣相沉積技術(shù),，可為沉積反應(yīng)提供能量,。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會(huì)降低薄膜質(zhì)量,。

批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學(xué)氣相沉積技術(shù),，可為沉積反應(yīng)提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比,，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會(huì)降低薄膜質(zhì)量,。

此系統(tǒng)為專對(duì)派瑞林(Parylene)所設(shè)計(jì)，其腔體內(nèi)部具有公自轉(zhuǎn)知特性,，並批量式生產(chǎn),。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性,、高穿透性…等特性,?？蓱?yīng)用於光電元件封裝、電路板絕緣…等,。

批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備參數(shù)：

應(yīng)用領(lǐng)域腔體

  • 醫(yī)療和商業(yè)產(chǎn)品的耐磨薄膜

  • 封裝,、絕緣

  • 防刮顯示屏

  • 客製化的腔體尺寸，取決於基板尺寸和其應(yīng)用

  • 通過(guò)使用水冷,、水熱系統(tǒng)或加熱器來(lái)控制腔體溫度


配置和優(yōu)點(diǎn)選件

  • 客製化的基板

  • 多載片

  • 優(yōu)異的薄膜均勻性小於+-3%

  • 精準(zhǔn)流量控制器,，氣體分佈高度均勻

  • 使用電容式藕荷電漿(CCP)





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