工藝靈活性

PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進行SiO2,、SiNx,、SiOxNy和a-Si的標準的化學(xué)氣相沉積工藝。

預(yù)真空室

SI 500 PPD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的特色是預(yù)真空室和干泵裝置,，用于無油,、高產(chǎn)量和潔凈的化學(xué)氣相沉積過程。

SENTECH控制軟件

強大的用戶界面友好軟件包括模擬圖形用戶界面,，參數(shù)窗口，工藝處方編輯窗口,，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理,。

SI 500 PPD代表了的等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備，用于介質(zhì)膜,、非晶硅,、碳化硅和其他材料的沉積。它基于平板電容耦合等離子體源,，預(yù)真空室,，溫控襯底電極，可選的低頻射頻源,、全自動控制的無油真空系統(tǒng),、的SENTECH控制軟件，采用遠程現(xiàn)場總線技術(shù),，以及用戶友好的通用界面來操作SI 500 PPD,。

SI 500 PPD等離子沉積設(shè)備,，可以加工從大到200毫米直徑的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預(yù)真空室保證穩(wěn)定的工藝條件,，并實現(xiàn)簡易切換的過程,。

SI 500 PPD等離子增強沉積設(shè)備用于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)沉積SiO2、SiNx,、SiONx和a-Si薄膜,。通過液態(tài)或氣態(tài)前驅(qū)體，SI 500 PPD可以為TEOS, SiC和其它材料的沉積提供解決方案,。SI 500 PPD特別適用于化學(xué)氣相沉積用于刻蝕掩膜,，鈍化膜，波導(dǎo)及其他的介質(zhì)膜和非晶硅,。

SENTECH提供不同級別的自動化程度,，從真空片盒載片到一個工藝腔室或至多六個工藝模塊端口，可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng),，目標是高靈活性或高產(chǎn)量,。SI 500 PPD也可用作多腔沉積系統(tǒng)中的一個工藝模塊。

氣相沉積光刻機刻蝕機磁控濺射圖片介紹：