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當(dāng)前位置:北京盈思拓科技有限公司>>薄膜,、塊體樣品制備>>ALD原子層沉積設(shè)備>> AT 200M迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)AT 200M
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地北京市
更新時(shí)間:2024-11-18 15:45:23瀏覽次數(shù):962次
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市場上占地面積最小的 ALD(原子層沉積)工具,。AT200M 體積小巧,,可以放入手套箱中,,因此是濕氣或空氣敏感沉積的解決方案。
占地面積?。▇ 15 in3 或 38.1 cm3)
半導(dǎo)體級元件
金屬密封管路
通風(fēng)前驅(qū)體外殼
兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥,,帶有超快速 MFC,用于集成惰性氣體吹掃
前驅(qū)體(最高 150°C),,歧管,,腔室加熱以確保無冷凝。
強(qiáng)大的 PLC 驅(qū)動(dòng)用戶界面
不銹鋼腔室可加熱至 300°C,。
規(guī)格:
腔室溫度從 RT 到 300°C ± 1 °C
前驅(qū)體溫度從 RT 到 150°C ± 2°C(帶加熱夾套)
市場上占地面積最?。?.6 平方英尺),臺(tái)式安裝,,兼容潔凈室,,也適合手套箱。
系統(tǒng)維護(hù)簡單,,公用設(shè)施和前驅(qū)體使用量低,。
腔室容積小
非常快速的循環(huán)能力,。
完整的硬件和軟件互鎖,,即使在多用戶環(huán)境中也能安全操作
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