PICOSUN™ R-200高級型ALD系統(tǒng)是ALD科研設(shè)備市場的,，在擁有百用戶,。它已經(jīng)成為一些創(chuàng)新公司和研究機構(gòu)的研發(fā)工具。

        靈活的設(shè)計確保沉積高質(zhì)量的ALD薄膜,，超靈活的系統(tǒng)配置也能滿足用戶未來的需求和應用。的熱壁設(shè)計,、獨立的前驅(qū)體管路和特殊的載氣設(shè)計,，使得無顆粒沉積廣泛應用于平面晶圓、3D基片和所有納米尺度的材料,。即使在挑戰(zhàn)性的多孔材料,、超高深寬比和納米顆粒表面沉積，系統(tǒng)都能實現(xiàn)的均勻性,，這些都歸功于我們的技術(shù)Picoflow™,。Picosun™R-200高級型系統(tǒng)配備功能強大和易于更換的液體、氣體和固體前驅(qū)體源,。高效率和擁有的遠程等離子選項可以沉積金屬而不發(fā)生短路,，不存在等離子體損壞的危險。系統(tǒng)可集成手套箱,，超高真空系統(tǒng),、手動或半自動加載系統(tǒng)，集群系統(tǒng),，粉末反應腔,，卷對卷反應腔和各種在線分析系統(tǒng)，使您的研究變得高效和靈活,。即使將來您改變研究領(lǐng)域,，它依就會是您幫手,！