Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡介紹
一直以來,，Helios NanoLab 都綜合采用了 FEI 的電子和離子光學(xué)系統(tǒng),、配件和軟件,，能夠為納米量級研究提供強(qiáng)大的解決方案。對于從事納米技術(shù)前沿研究的科學(xué)家,，Helios NanoLab 能讓他們拓展研究邊界,，為材料研究開辟新的天地。
借助價值的亞納米 SEM 成像技術(shù),、S/TEM 超薄樣本制備能力以及精確的原型設(shè)計功能,，科學(xué)家能夠?qū)?Helios NanoLab 當(dāng)作理想的研究伴侶，為未來的科技進(jìn)步開發(fā)創(chuàng)新的新材料和納米量級器件,。
Helios NanoLab 的材料科學(xué)應(yīng)用
在材料科學(xué)領(lǐng)域,，研究人員面臨的挑戰(zhàn)是持續(xù)改善目前制造的材料和設(shè)備的質(zhì)量。為了實現(xiàn)技術(shù)進(jìn)步,，在納米量級了解結(jié)構(gòu)和成分細(xì)節(jié)至關(guān)重要,。Helios NanoLab 設(shè)計用來以低至亞納米量級的分辨率提供多尺度、多維度洞察,，讓研究人員能夠觀測樣本最微小的細(xì)節(jié),。Helios NanoLab 還可為原子分辨率 S/TEM 成像迅速制備最高質(zhì)量的樣本。此外,，如果研究工作包括開發(fā) MEMS 或 NEMS 器件,，也可配備 Helios NanoLab 打造全功能原型。
Helios NanoLab 的電子工業(yè)應(yīng)用
Helios NanoLab 是一款極其靈活的平臺,，既能以很高的效率制備 TEM 樣本,，又能開展高性能低電壓成像以分析高級邏輯和存儲器件。Helios Nanolab 具有大型和小型樣本室兩個配置,，效率高,，并且是面向?qū)嶒炇液徒a(chǎn)環(huán)境的低每樣本成本半導(dǎo)體分析工作流的關(guān)鍵組成部分。
Helios NanoLab 的自然資源應(yīng)用
地質(zhì)學(xué)家和礦藏工程師可以使用 Helios NanoLab 技術(shù)對鉆屑和微芯開展二維和三維巖石表征,。它利用的 DualBeam 技術(shù)特色,，博采 FIB(聚焦離子束)銑削和 SEM(掃描電子顯微鏡)分析之長。借助自動化序列樣本銑削和成像功能,，客戶可以創(chuàng)建二維序列圖像,，進(jìn)而開展三維容積重建。根據(jù)這些數(shù)據(jù)，客戶可以在微米至納米量級別觀測和量化孔隙網(wǎng)絡(luò)等紋理,。
Helios NanoLab 的生命科學(xué)應(yīng)用
要想在三維背景下了解生物事件,，就必須采用專用的成像解決方案，而且這些成像解決方案應(yīng)能以很高的分辨率呈現(xiàn)極小的細(xì)節(jié),，從而揭示出復(fù)雜網(wǎng)絡(luò)的超微結(jié)構(gòu)和空間結(jié)構(gòu),。Helios NanoLab 具有 SEM 性能和可靠、精確的 FIB 切片能力,，還配備了高精度壓電工作臺，堪稱小型 DualBeam 平臺的之選,。出色的成像能力,，輔以透鏡內(nèi)和柱內(nèi)檢測器提供的高對比度檢測技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)真正對比度,。
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