首頁 >> 公司動(dòng)態(tài) >> 未來已來丨Helios 5 EXL晶圓級(jí)雙束電鏡：自動(dòng)化功能助力良率提升
良率提升如此重要，借助什么樣的技術(shù)和設(shè)備能夠突破良率提升的瓶頸,？賽默飛的Helios 5 EXL晶圓級(jí)雙束電鏡是一個(gè)很好的解決方案,。在過去的推送中我們著重給大家介紹了Helios 5 EXL應(yīng)對(duì)不同失效類型的解決方案（鏈接：未來已來|一窺電鏡如何影響AI算力提升）以及近產(chǎn)線分析工作流相對(duì)于傳統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室分析流程的優(yōu)勢(shì)（鏈接：未來已來|晶圓級(jí)雙束電鏡——良率提升及失效分析新紀(jì)元）。今天我們著重介紹一下Helios 5 EXL的自動(dòng)化功能如何從失效分析出發(fā),，助力客戶良率提升：
（Helios 5 EXL支持高效的失效分析和量測(cè)工作流）
保證高通量的基于截面和TEM樣品分析的工藝監(jiān)測(cè),，是保證良率穩(wěn)步提升的關(guān)鍵。除此之外,，面對(duì)復(fù)雜工藝和高精度要求,，分析和量測(cè)數(shù)據(jù)的不確定性和不一致性都會(huì)對(duì)生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生重大影響。Helios 5 EXL的自動(dòng)化功能通過盡可能消除人為操作中的變數(shù),，極大地降低了這種不確定性,。自動(dòng)化系統(tǒng)能夠穩(wěn)定、精確地執(zhí)行樣品制備的每一個(gè)步驟,，確保一致性和可重復(fù)性,，從而減少了生產(chǎn)過程中的風(fēng)險(xiǎn)和錯(cuò)誤。對(duì)于半導(dǎo)體制造商而言,，Helios 5 EXL的自動(dòng)化功能不僅提升了生產(chǎn)效率,，更提供了一種可靠的解決方案，幫助他們?cè)诟?jìng)爭(zhēng)激烈的市場(chǎng)中保持前列,。
在傳統(tǒng)基于實(shí)驗(yàn)室的失效分析流程中,，缺陷或失效點(diǎn)位的定位一直是一個(gè)費(fèi)時(shí)費(fèi)力的難點(diǎn)。原因在于實(shí)驗(yàn)室必須對(duì)晶圓進(jìn)行破片處理,，從而導(dǎo)致難以精準(zhǔn)定位缺陷點(diǎn)位,。在Helios 5 EXL中，自動(dòng)化的晶圓導(dǎo)航模塊可以讀取其他in-line機(jī)臺(tái)（如Review SEM或CD-SEM等）的坐標(biāo)輸出文件,，直接精準(zhǔn)定位到需要分析的位置,，在極大提高整體分析流程效率的同時(shí)突破了實(shí)驗(yàn)室分析點(diǎn)位數(shù)量受限的缺點(diǎn)。
在樣品制備的自動(dòng)化方面,，Helios 5 EXL 可以搭載的 AutoTEM 5 是一套專為半導(dǎo)體制造和材料科學(xué)領(lǐng)域設(shè)計(jì)的自動(dòng)化樣品制備解決方案,。AutoTEM 5 的主要功能包括：
（AutoTEM 5 能在EXL上實(shí)現(xiàn)各種類型的TEM樣品自動(dòng)化制備，幫助應(yīng)對(duì)不同缺陷和失效分析的需求）
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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