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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

雙面拋光機(jī)

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)TDP-1200/1200A

品牌特思迪

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地深圳市

更新時(shí)間:2025-06-05 20:37:02瀏覽次數(shù):474次

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雙面拋光機(jī)分為雙面機(jī)械拋光和雙面化學(xué)拋光兩種,分別代表雙面拋光的粗加工和精加工。主要用于晶片的表面拋光,,操作簡(jiǎn)單,,搭配不同的夾具,,拋光墊,拋光液可以實(shí)現(xiàn)不同材料,,不同尺寸,,不同厚度的晶片拋光。

1.  產(chǎn)品概述:

雙面拋光機(jī)是一種專門用于對(duì)材料兩面進(jìn)行高精度,、高效率拋光處理的機(jī)械設(shè)備,。它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體硅片、磁性材料,、藍(lán)寶石,、光學(xué)玻璃、金屬材料及其它硬脆材料的加工過(guò)程中,,以提高產(chǎn)品的表面光潔度和精度,。雙面拋光機(jī)通過(guò)上下兩個(gè)拋光盤的旋轉(zhuǎn),利用摩擦力和磨料的作用,,去除工件表面的毛刺,、氧化層等雜質(zhì),從而達(dá)到拋光的目的,。

2 設(shè)備用途/原理:

雙面拋光機(jī)的主要用途包括:

  1. 半導(dǎo)體硅片加工:在半導(dǎo)體行業(yè)中,,雙面拋光機(jī)被用于硅片的雙面拋光,以提高硅片的表面平整度和光潔度,,滿足后續(xù)工藝的需求,。

  2. 光學(xué)玻璃加工:在光學(xué)領(lǐng)域,雙面拋光機(jī)能夠確保光學(xué)玻璃的兩面都達(dá)到光學(xué)精度,,滿足精密光學(xué)儀器的要求,。

  3. 金屬材料加工:對(duì)于金屬材料,雙面拋光機(jī)能夠去除表面的氧化層和毛刺,,提高金屬件的表面質(zhì)量和美觀度,。

  4. 藍(lán)寶石加工:在藍(lán)寶石等硬脆材料的加工中,雙面拋光機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)高效,、高精度的拋光,,滿足LED、藍(lán)寶石襯底等領(lǐng)域的需求,。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

雙面拋光機(jī)具有以下特點(diǎn):

  1. 高精度:雙面拋光機(jī)能夠?qū)?duì)準(zhǔn)精度提高多達(dá)20倍,,這對(duì)于精密加工領(lǐng)域具有重要意義。它能夠確保工件的兩面都達(dá)到平整度和光潔度,。

  2. 高效率:采用雙盤對(duì)磨的方式,,能夠同時(shí)加工工件的兩面,大大提高了加工效率,。此外,,設(shè)備還具有自動(dòng)進(jìn)給功能,,可根據(jù)加工進(jìn)度自動(dòng)調(diào)整拋光壓力和速度。

  3. 多材料適用:雙面拋光機(jī)適用于多種硬脆材料的拋光,,包括半導(dǎo)體硅片,、磁性材料、藍(lán)寶石,、光學(xué)玻璃,、金屬材料等,具有廣泛的加工適應(yīng)性,。

  4. 多工藝兼容:設(shè)備支持粗拋,、中拋,、精拋等多種拋光工藝,,能夠滿足不同加工需求。同時(shí),,采用分段加壓控制,,能夠根據(jù)不同工藝要求準(zhǔn)確調(diào)整拋光壓力和速度。



綜上所述,,雙面拋光機(jī)是一種高精度,、高效率、多材料適用,、多工藝兼容的拋光加工設(shè)備,,在半導(dǎo)體、光學(xué),、金屬等多個(gè)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景,。



4 設(shè)備參數(shù)


規(guī)格/參數(shù)

TDP-1200

TDP-1200A

制程工藝

雙面機(jī)械拋光

雙面化學(xué)機(jī)械拋光

加壓方式

氣囊

氣囊

拋光壓力

Max1000 kgf

Max1000 kgf

上下拋光盤尺寸

OD1100 mm

OD1100 mm

游星輪規(guī)格

14B*6

14B*6

上下拋光盤轉(zhuǎn)速

0-70 RPM

0-70 RPM

內(nèi)環(huán)轉(zhuǎn)速

0-115 RPM

0-115 RPM

外環(huán)轉(zhuǎn)速

0-40 RPM

0-40 RPM

外環(huán)升降






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